[发明专利]基于波长的光学过滤

权利要求书

1.一种用于极紫外(EUV)光刻工具的光源，所述光源包括：

基于波长的光学滤光器系统，被配置为布置在光生成模块与光学放大器之间，所述基于波长的光学滤光器系统包括至少一个光学元件，所述至少一个光学元件被配置为允许具有第一波长集合中的波长的光在光束路径上朝向目标区域传播，所述目标区域被配置为容纳目标材料，所述目标材料在处于等离子体状态时发射EUV光，并且所述至少一个光学元件进一步被配置为从所述光束路径中移除具有第二波长集合中的波长的光，所述第一波长集合和所述第二波长集合包括所述光学放大器的增益带中的不同波长，其中

该基于波长的光学滤波器系统包括至少部分地在空间上不同的第一光束路径和第二光束路径，并且在操作使用中，具有在所述第一波长集合中的第一波长的第一光束在所述第一光束路径上传播，并且具有不同于所述第一波长的、且在所述第一波长集合中的第二波长的第二光束在所述第二光束路径上传播，使得所述第一光束和所述第二光束在所述光束路径上朝向所述目标区域传播。

2.根据权利要求1所述的光源，其中所述至少一个光学元件包括色散光学元件、光学滤光元件和干涉仪中的一个或多个。

3.根据权利要求2所述的光源，其中所述色散光学元件包括棱镜和光栅中的一个或多个。

4.根据权利要求2所述的光源，其中所述至少一个光学滤光元件包括如下一个或多个元件：包含多个涂层的光学元件以及被配置为吸收具有所述第二波长集合中的一个或多个波长的光的光学元件。

5.根据权利要求2所述的光源，其中所述干涉仪包括标准具。

6.根据权利要求3所述的光源，其中所述色散光学元件包括光栅，所述光栅被定位为将具有所述第一波长集合中的波长的光反射到所述光束路径上，并且将具有所述第二波长集合中的波长的光反射远离所述光束路径。

7.根据权利要求6所述的光源，其中所述基于波长的光学滤光器系统还包括至少一个二向色光学元件。

8.根据权利要求7所述的光源，其中所述至少一个二向色光学元件位于所述光生成模块与所述光栅之间。

9.根据权利要求1所述的光源，还包括基于偏振的光学隔离系统，所述基于偏振的光学隔离系统被配置为透射具有第一偏振的光并且阻挡具有第二偏振的光，其中

所述第二偏振不同于所述第一偏振，

并且所述基于波长的光学滤光器系统位于所述光生成模块与所述基于偏振的光学隔离系统之间。

10.根据权利要求1所述的光源，其中所述光生成模块包括多于一个的光生成模块，其中所述光生成模块中的一个模块被配置为生成具有第一波长的第一光束，并且所述光生成模块的另一模块被配置为生成具有第二波长的第二光束，所述第一波长和所述第二波长在所述第一波长集合中。

11.根据权利要求1所述的光源，其中所述光生成模块被包括在光生成系统中，以及所述光生成系统还包括被定位为接收从所述光生成模块发射的光的一个或多个光学放大器。

12.根据权利要求1所述的光源，其中所述光学放大器包括多个光学放大器，每个所述光学放大器均包括与所述增益带相关联的增益介质，并且所述基于波长的光学滤光器系统位于两个所述光学放大器之间。