[发明专利]基于波长的光学过滤

说明书

一种用于极紫外(EUV)光刻工具的光源，包括：光生成系统，包括光生成模块；光学放大器，包括与增益带相关联的增益介质，增益介质被配置为放大具有增益带中的波长的光；以及基于波长的光学滤光器系统，位于光生成模块和光学放大器之间的光束路径上，基于波长的光学滤光器系统包括至少一个光学元件，至少一个光学元件被配置为允许具有第一波长集合中的波长的光在光束路径上传播，并且允许从光束路径中移除具有第二波长集合中的波长的光，第一波长集合和第二波长集合包括光学放大器的增益带中的不同波长。

相关申请的交叉参考

本申请要求于2016年9月20日提交的美国申请15/270,072的权益，其全部内容通过引用并入本文。

技术领域

本发明公开的主题涉及基于波长的光学过滤。例如，基于波长的光学滤光器系统可包括在极紫外(EUV)光源中，以在光生成模块和光学放大器之间提供光学隔离。光学滤光器系统还可以在光生成模块和由目标材料和放大光之间的相互作用生成的等离子体之间提供隔离。

背景技术

可以在光刻工艺中使用极紫外(“EUV”)光(例如，波长约为50nm以下的电磁辐射(有时也称为软X射线)，并且包括波长约为13nm的光)，以在衬底(例如，硅晶圆)中产生非常小的特征。

产生EUV光的方法包括但不必须限于利用EUV范围中的发射线将具有例如，氙、锂或锡的元素的材料转换为等离子体状态。在一种通常称为激光产生等离子体(“LPP”)的这种方法中，所需要的等离子体可通过利用放大光束(可称为驱动激光)照射目标材料(例如，液滴、板、带、流或材料簇的形式)来产生。对于此工艺，等离子体通常在密封容器(例如，真空室)中产生，并且使用各种类型的计量设备来监控。

发明内容

在一个总体方面中，用于极紫外(EUV)光刻工具的光源包括：光生成系统，包括光生成模块；光学放大器，包括与增益带相关联的增益介质，增益介质被配置为放大具有增益带中的波长的光；以及基于波长的光学滤光器系统，位于光生成模块和光学放大器之间的光束路径上，基于波长的光学滤光器系统包括至少一个光学元件，该至少一个光学元件被配置为允许具有第一波长集合中的波长的光在光束路径上传播，并且允许从光束路径中移除具有第二波长集合中的波长的光，第一波长集合和第二波长集合包括光学放大器的增益带中的不同波长。

实施方式可以包括以下一个或多个特征。至少一个光学元件可以包括色散光学元件、光学滤光元件和干涉仪中的一个或多个。色散光学元件可以包括棱镜和光栅中的一个或多个。至少一个光学滤光元件可以包括如下一个或多个元件：包含多个涂层的光学元件以及被配置为吸收具有第二波长集合中的一个或多个波长的光的光学元件。干涉仪可以包括标准具。色散光学元件可以包括光栅，光栅被定位为将具有第一波长集合中的波长的光反射到光束路径上，并且将具有第二波长集合中的波长的光反射远离光束路径。基于波长的光学滤光器系统还可以包括至少一个二向色光学元件。至少一个二向色光学元件可位于光生成模块与光栅之间。