[发明专利]用于制备有机半导体层和有机电子器件的方法在审

专利信息
申请号: 201780052403.2 申请日: 2017-08-30
公开(公告)号: CN109643759A 公开(公告)日: 2019-04-16
发明(设计)人: 斯特芬·伦格;卡斯滕·罗特;朱莉恩·弗雷;乌韦·戈尔弗特 申请(专利权)人: 诺瓦尔德股份有限公司
主分类号: H01L51/00 分类号: H01L51/00;H01L51/56;H01L51/50
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 郭国清;穆德骏
地址: 德国德*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及一种在真空室中、在10‑5毫巴至10‑9毫巴的压力下制备有机半导体层的方法,所述方法包括从布置在所述真空室中的单一真空热蒸发源将组合物升华的步骤,其中所述组合物包含(a)分子量≥400且≤1,000的第一有机芳族基质化合物和(b)分子量≥100且≤400的第一碱金属有机络合物的物理混合物。
搜索关键词: 有机半导体层 真空室 制备 碱金属 有机电子器件 基质化合物 物理混合物 有机络合物 真空热蒸发 有机芳族 升华
【主权项】:
1.一种在真空室中、在10‑5毫巴至10‑9毫巴的压力下制备有机半导体层的方法,所述方法包括从布置在所述真空室中的单一真空热蒸发源将组合物升华的步骤,其中所述组合物包含下述物质的物理混合物:(a)分子量≥400且≤1,000的第一有机芳族基质化合物;和(b)分子量≥100且≤400的第一碱金属有机络合物。
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