[发明专利]离子源以及离子注入装置有效
| 申请号： | 201780039506.5 | 申请日： | 2017-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN109314025B | 公开（公告）日： | 2020-05-15 |
| 发明（设计）人： | 汤瀬琢巳;寺泽寿浩;佐佐木德康 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | H01J27/02 | 分类号： | H01J27/02;H01J37/08;H01J37/317;H01L21/265 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 李婷;谭祐祥 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种令在离子源的离子生成容器中令离子化气体与离子原料反应而生成离子时产生的中间生成物附着到气体供给管的供给侧末端部及内壁面的量尽可能减少的技术。本发明的离子源具有令经由筒状的气体导入管（13）导入到容器中的离子化气体与释放到容器中的离子原料反应以生成离子的离子生成容器（11）。气体导入管（13）构成为通过气体供给管（14）将离子化气体导入至气体导入管（13）的内部空间（13b）。在气体导入管（13）的内部空间（13b）中设置具有冷却并捕集在离子生成容器（11）中产生的中间生成物的冷却捕集部（33）的拆装自如的冷却捕集构件（30）。冷却捕集部（33）在气体导入管（13）的内部空间（13b）的气体供给管（14）的供给侧末端部（14a）附近，配置为不接触气体导入管（13）的内壁面。 | ||
| 搜索关键词： | 离子源 以及 离子 注入 装置 | ||
【主权项】：
1.一种离子源，用于生成离子束，其特征在于，具有离子生成容器，所述离子生成容器令经由筒状的气体导入管被导入到容器内的离子化气体与被释放到该容器内的离子原料反应而生成离子，所述气体导入管构成为通过气体供给管向该气体导入管的内部空间导入所述离子化气体，并且在所述气体导入管的内部空间中设置有拆装自如的冷却捕集构件，所述冷却捕集构件具有冷却捕集部，所述冷却捕集部冷却并捕集在所述离子生成容器内生成的中间生成物，所述冷却捕集部在所述气体导入管的内部空间的所述气体供给管的供给侧末端部的附近以不与该气体导入管的内壁面接触的方式配置。
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