[发明专利]用于保持在真空沉积工艺中使用的基板的设备、用于基板上的层沉积的系统、以及用于保持基板的方法在审
| 申请号： | 201780037647.3 | 申请日： | 2017-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN109477201A | 公开（公告）日： | 2019-03-15 |
| 发明（设计）人： | 迈克尔·雷纳·舒尔特海斯;德烈亚斯·勒普;沃尔夫冈·布什贝克;于尔根·亨里奇;斯蒂芬·班格特 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;H01L21/683 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本公开内容提供了一种用于在真空沉积工艺中保持基板(10)或掩模的设备(100)。所述设备(100)包括：一个或多个第一电极和一个或多个第二电极，可连接到第一电源组件(230)；和一个或多个第三电极，布置在所述一个或多个第一电极与所述一个或多个第二电极之间并且可连接到第二电源组件(240)。 | ||
| 搜索关键词： | 基板 真空沉积工艺 第二电极 第一电极 电源组件 可连接 第三电极 内容提供 掩模 沉积 | ||
【主权项】：
1.一种用于保持在真空沉积工艺中使用的基板或掩模的设备，包括：一个或多个第一电极和一个或多个第二电极；第一电源组件，连接到所述一个或多个第一电极；和第二电源组件，连接到所述一个或多个第二电极并且提供所述第一电源组件的一个或多个冗余部件。
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