[发明专利]新型有机高分子及其制造方法在审
申请号: | 201780021632.8 | 申请日: | 2017-03-24 |
公开(公告)号: | CN109071783A | 公开(公告)日: | 2018-12-21 |
发明(设计)人: | 冈本敏宏;竹谷纯一;池田大次;岩谷真男 | 申请(专利权)人: | 国立大学法人东京大学;株式会社大赛璐 |
主分类号: | C08G61/12 | 分类号: | C08G61/12;H01L29/786;H01L51/05;H01L51/30;H01L51/46 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 沈雪 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: |
提供一种对于形成有机半导体有用的新型有机高分子及其用途。将下述式(Ia)所示化合物供于偶联反应,得到有机高分子。(式中,环A及环B表示芳香族烃环或芳香族杂环,n表示0或1~6的整数、R1~R2+n表示取代基(烷基等),a1~a(2+n)表示0~2的整数,环C表示根据n的数与相邻的苯环依次非直线状地邻位缩合而成的苯环,X表示氢原子、卤素原子、锂原子或‑MgX1,X1表示卤素原子。) |
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搜索关键词: | 有机高分子 卤素原子 苯环 烷基 芳香族烃环 芳香族杂环 有机半导体 非直线状 偶联反应 氢原子 锂原子 式中 缩合 制造 | ||
【主权项】:
1.具有下述式(I)所示重复单元的有机高分子。
式中,环A及环B各自独立地表示芳香族烃环或芳香族杂环,n表示0或1~6的整数、R1~R2+n各自独立地表示取代基,a1~a(2+n)各自独立地表示0~2的整数,环C表示根据n的数与相邻的苯环依次非直线状地邻位缩合而成的苯环。
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