[发明专利]具有降低的背景的基于光学的纳米孔分析有效
申请号: | 201780006777.0 | 申请日: | 2017-01-11 |
公开(公告)号: | CN108463560B | 公开(公告)日: | 2022-09-20 |
发明(设计)人: | 丹尼尔·科斯洛夫;布雷特·N·安德森 | 申请(专利权)人: | 昆塔波尔公司 |
主分类号: | C12Q1/6869 | 分类号: | C12Q1/6869;G01N21/64;G01N33/487 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 李平;郑霞 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及包含不透明层的纳米孔阵列,所述不透明层降低在应用此类阵列用于分析分子中收集的光学信号中的背景荧光。在一些实施方案中,此类阵列用于在包括以下步骤的方法中确定聚合物诸如多核苷酸的特征:使聚合物易位穿过所述阵列的纳米孔,其中聚合物具有一个或更多个光学标记物,激发从所述不透明层向激发光束的方向延伸的每个纳米孔的信号生成区中的聚合物的光学标记物,检测来自每个纳米孔的信号生成区的光学信号以确定穿过其易位的聚合物的特征。 | ||
搜索关键词: | 具有 降低 背景 基于 光学 纳米 分析 | ||
【主权项】:
1.一种确定聚合物的特征的方法,所述方法包括:提供纳米孔阵列,所述纳米孔阵列包含固相膜和与其共同延伸的不透明层,所述纳米孔阵列包含多个孔眼并分隔第一室和第二室,其中每个孔眼提供所述第一室和所述第二室之间的流体连通并具有信号生成区,且其中所述不透明层基本上防止光穿过所述纳米孔阵列;使聚合物从所述第一室穿过所述孔眼易位到所述第二室,每个聚合物具有附接到其上的一个或更多个光学标记物,所述光学标记物能够生成具有指示所述聚合物的特征的至少第一波长的光学信号;当所述聚合物易位穿过所述孔眼的所述信号生成区时,用具有第二波长的激发光束激发所述聚合物的光学标记物,其中检测区中的所述光学标记物生成其第一波长不同于所述第二波长的光学信号;检测来自所述信号生成区的所述光学标记物的光学信号以确定所述聚合物的特征。
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