[发明专利]用于原子层沉积的装置

摘要

本发明涉及一种用于根据原子层沉积原理使基底的表面经历至少第一前体和第二前体的表面反应的装置。所述装置包括反应腔室(1)，所述反应腔室形成反应空间(2)以用于接收在所述基底的所述表面上反应的前体气体。所述装置还包括基底支撑件(3)，所述基底支撑件用于固持所述基底；介电板(4)；以及电极(7)，所述电极耦合到电压源(8)以在所述电极(7)上感应出电压，从而向所述反应空间(2)产生放电。所述介电板(4)布置在所述基底支撑件(3)与所述电极(7)之间，并且使得所述反应空间(2)布置在所述基底支撑件(3)与所述介电板(4)之间。

主权项

1.一种用于根据原子层沉积原理使基底的表面经历至少第一前体和第二前体的表面反应的装置，所述装置包括：‑反应腔室(1)，所述反应腔室形成反应空间(2)以用于接收在所述基底的所述表面上反应的前体气体，‑基底支撑件(3)，所述基底支撑件用于固持所述基底，‑介电板(4)，以及‑电极(7)，所述电极耦合到电压源(8)以在所述电极(7)上感应出电压，从而向所述反应空间(2)产生放电，‑所述介电板(4)布置在所述基底支撑件(3)与所述电极(7)之间，使得所述反应空间(2)布置在所述基底支撑件(3)与所述介电板(4)之间，所述基底支撑件(3)能在竖直方向上移动，以使所述基底(1)在所述反应腔室(1)处于关闭状态的处理位置与所述反应腔室(1)处于打开状态的装载位置之间移动，所述装置的特征在于：所述介电板(4)能与所述基底支撑件(3)一起在所述处理位置与所述装载位置之间移动。