[发明专利]聚合物、正性抗蚀剂组合物以及形成抗蚀剂图案的方法有效
申请号: | 201780005224.3 | 申请日: | 2017-01-20 |
公开(公告)号: | CN108473627B | 公开(公告)日: | 2020-09-15 |
发明(设计)人: | 星野学 | 申请(专利权)人: | 日本瑞翁株式会社 |
主分类号: | C08F212/04 | 分类号: | C08F212/04;C08F220/22;G03F7/039 |
代理公司: | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人: | 赵曦;刘继富 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
本发明的聚合物具有下述的通式(I)所示的单体单元(A)和通式(II)所示的单体单元(B),单体单元(A)和单体单元(B)中的至少一者具有一个以上氟原子。另外,式中,R |
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搜索关键词: | 聚合物 正性抗蚀剂 组合 以及 形成 抗蚀剂 图案 方法 | ||
【主权项】:
1.一种聚合物,具有下述通式(I)所示的单体单元A和下述通式(II)所示的单体单元B:
式(I)中,R1为氯原子、氟原子或被氟原子取代的烷基,R2为非取代的烷基或被氟原子取代的烷基,R3和R4为氢原子、氟原子、非取代的烷基或被氟原子取代的烷基,可以彼此相同也可以不同,
式(II)中,R5、R6、R8及R9为氢原子、氟原子、非取代的烷基或被氟原子取代的烷基,可以彼此相同也可以不同,R7为氢原子、非取代的烷基或被氟原子取代的烷基,p和q为0以上且5以下的整数,p+q=5,所述单体单元A和所述单体单元B中的至少一者具有一个以上氟原子。
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