[实用新型]一种真空坩埚旋转下降法晶体生长炉有效
| 申请号： | 201721846321.9 | 申请日： | 2017-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN207811925U | 公开（公告）日： | 2018-09-04 |
| 发明（设计）人： | 沈彭平;高光平;周海军 | 申请（专利权）人： | 上海煜志机电设备有限公司 |
| 主分类号： | C30B11/00 | 分类号： | C30B11/00 |
| 代理公司： | 上海容慧专利代理事务所(普通合伙) 31287 | 代理人： | 于晓菁 |
| 地址： | 201800 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种真空坩埚旋转下降法晶体生长炉,包括炉支架、炉本体、压力传感器、充放气装置、真空系统、冷水系统、加热器、电极、坩埚和坩埚旋转下降装置；炉本体设于炉支架上，压力传感器、充放气装置、真空系统分别与炉本体的体壁连通，冷水系统与真空系统连接，加热器设于炉本体内，电极与加热器连接并控制加热器工作状态，坩埚安装于加热器内，坩埚旋转下降装置与坩埚连接,坩埚旋转下降装置可以控制坩埚在加热器内旋转和移动；本实用新型的坩埚可在不同的温场及气氛下工作。 | ||
| 搜索关键词： | 坩埚 加热器 下降装置 真空系统 炉本体 本实用新型 充放气装置 晶体生长炉 压力传感器 冷水系统 炉支架 下降法 电极 控制加热器 加热器设 内旋转 体壁 温场 连通 体内 移动 | ||
【主权项】：
1.一种真空坩埚旋转下降法晶体生长炉,其特征在于,包括炉支架、炉本体、压力传感器、充放气装置、真空系统、冷水系统、加热器、电极、坩埚和坩埚旋转下降装置；所述炉本体设于所述炉支架上，所述压力传感器、所述充放气装置、所述真空系统分别与所述炉本体的体壁连通，所述冷水系统与所述真空系统连接，所述加热器设于所述炉本体内，所述电极与所述加热器连接并控制所述加热器工作状态，所述坩埚安装于所述加热器内，所述坩埚旋转下降装置与所述坩埚连接,所述坩埚旋转下降装置可以控制所述坩埚在所述加热器内旋转和移动。
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