[实用新型]一种单模、多模光纤模式转换装置有效

专利信息
申请号: 201721502856.4 申请日: 2017-11-10
公开(公告)号: CN207704070U 公开(公告)日: 2018-08-07
发明(设计)人: 谢建毫 申请(专利权)人: 深圳伊讯科技有限公司
主分类号: G02B6/14 分类号: G02B6/14
代理公司: 北京德高行远知识产权代理有限公司 11549 代理人: 杨瑞;王健鹏
地址: 518101 广东省深圳市宝*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种单模、多模光纤模式转换装置,包括输入光纤(1)、单多模光转换模块(2)、输出光纤(7),其特征在于:所述输入光纤(1)与单多模光转换模块(2)相连,所述输出光纤(7)与单多模光转换模块(2)相连,所述输出光纤(7)输出最小损耗的多模光纤光信号。采用本实用新型的技术方案,解决了单模光纤和多模光纤与单模光模块和多模光模块混合使用的问题,只需将输入的单模光纤或多模光纤与单多模光转换模块相连,即可得到稳定的单模光纤光信号或多模光纤光信号。
搜索关键词: 多模光纤 多模光 转换模块 输出光纤 单模 模式转换装置 本实用新型 单模光纤 输入光纤 单模光纤光 最小损耗 光模块 输出
【主权项】:
1.一种单模、多模光纤模式转换装置,包括输入光纤(1)、单多模光转换模块(2)、输出光纤(7),其特征在于:所述输入光纤(1)与单多模光转换模块(2)相连,所述输出光纤(7)与单多模光转换模块(2)相连,所述输出光纤(7)输出最小损耗的光信号;所述单多模光转换模块(2),包括单模光纤匹配单元(3)、多模光纤匹配单元(4)、光转换单元(5),所述光转换单元(5)与单模光纤匹配单元(3)和多模光纤匹配单元(4)分别相连,所述单模光纤匹配单元(3)和多模光纤匹配单元(4)与输入光纤(1)相连,所述光转换单元(5)与输出匹配单元(6)相连,所述输出匹配单元(6)与输出光纤(7)相连。
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  • 方青;胡娟;张志群;陈华 - 昆明理工大学
  • 2017-07-10 - 2018-06-05 - G02B6/14
  • 本实用新型涉及一种折射率梯度变化的硅光子模斑转换器,属于半导体光信号传输技术领域。该转换器中SOI晶片衬底表面设有SiO2支撑结构,SiO2支撑结构上表面与硅光子锥形波导下表面相连,硅光子锥形波导与硅光子条形波导处于同一平面,且位于SiO2支撑结构上方,SiO2支撑结构、硅光子锥形波导、硅光子条形波导上设有将这三个结构封闭包围的梯度叠层SiOxNy内包层,梯度叠层SiOxNy内包层为以SOI晶片衬底为底从下至上折射率逐步梯度减小的叠层材料层,梯度叠层SiOxNy内包层四周设有SiO2外包层。本实用新型中的折射率梯度变化的硅光子模斑转换器解决了现有硅光子‑光纤模斑转换器的在光学性能和可靠性方面难以满足应用的要求,能够同时获得好的光学性能和高可靠性。
  • 一种基于双芯光纤的长周期光纤光栅模场转换器-201510437547.2
  • 陈明阳;韦锦;向前 - 江苏大学
  • 2015-07-23 - 2018-06-01 - G02B6/14
  • 本发明提供了一种基于双芯光纤的长周期光纤光栅模场转换器,包括单模纤芯Ⅰ、少模纤芯Ⅱ和包层,纤芯Ⅰ、纤芯Ⅱ包裹于所述包层内,组成双芯光纤;所述纤芯I为单模传输,纤芯II为非单模传输,在纤芯Ⅱ写入长周期光纤光栅,所述长周期光纤光栅在工作波长处满足纤芯Ⅱ中基模与纤芯Ⅰ中基模耦合的相位匹配条件。本发明采用长周期光纤光栅使纤芯Ⅰ中基模与纤芯Ⅱ中基模发生耦合,实现小模场和大模场光纤之间的模场转换。在较大波长范围内都有高效率转换,因而能实现宽带模场转换。所述模场转换器能够用于单模工作的少模光纤通信系统中,确保模式激发和分离的纯度,并且确保在传输过程中具有较小的损耗和低模式串扰。
  • 一种光波导模斑转换器-201720981382.X
  • 刘柳;秦子翔;阮子良;刘宇轩;陈伟 - 苏州易缆微光电技术有限公司
  • 2017-08-08 - 2018-04-27 - G02B6/14
  • 本实用新型公开了一种光波导模斑转换器,包括上包层,中间包层,绝缘体层,衬底,第一光波导和第二光波导,所述的绝缘体层置于所述衬底上,所述的绝缘体层上依次设置中间包层、上包层;所述第一光波导置于中间包层和所述绝缘体层之间,所述第二光波导置于所述上包层和所述中间包层之间;所述的第一光波导和第二光波导相对设置,第一光波导和第二光波导相对的一侧为锥型;所述的第二光波导与第一光波导相向的一侧也为锥型端,其尖端的模场与单模光纤中的模场相匹配;所述的第一光波导与第二光波导相向的一侧为矩形。本实用新型可以实现硅纳米光波导与普通单模光纤直接进行端面连接,而不必使用锥型透镜光纤,降低了光从普通单模光纤到波导传播过程中从硅衬底的辐射损耗,提高了与单模光纤模斑匹配度,提高了光的耦合效率,便于大规模光路集成。
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