[实用新型]一种高塑封质量的装置有效

专利信息
申请号: 201721328101.7 申请日: 2017-10-16
公开(公告)号: CN207465772U 公开(公告)日: 2018-06-08
发明(设计)人: 向永荣;周杰;吴子斌 申请(专利权)人: 成都先进功率半导体股份有限公司
主分类号: B29C45/27 分类号: B29C45/27;B29C45/38;B29C45/14;H01L21/56
代理公司: 四川力久律师事务所 51221 代理人: 王芸;熊晓果
地址: 611731 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 实用新型涉及一种芯片封装技术,具体涉及一种高塑封质量的装置,包括塑封模具,所述塑封模具的塑封料流道和注塑口之间设有两个斜道,从塑封料流道到注塑口之间依次分别为存料斜道和缓冲斜道,两个斜道在塑封料流道与注塑口之间的斜面上形成凹陷结构,注塑口的高度大于现有设计高度。该装置在注塑口和塑封料流道之间的斜面上设置两个斜道,且两个斜道在该斜面上形成凹陷结构,这形成断点设计,塑封料不会瞬时大量通过注塑口流向芯片框架,也能通过缓冲斜道形成一定的缓冲和阻挡作用,提高塑封质量;注塑口大于现有设计高度,增加注塑时的塑封料流量供应,改善塑封不全和塑封缺角的问题,减少材料浪费、降低生产成本。
搜索关键词: 注塑口 斜道 塑封料 塑封 流道 缓冲 凹陷结构 塑封模具 芯片封装技术 注塑 本实用新型 减少材料 流量供应 芯片框架 断点 缺角 阻挡
【主权项】:
一种高塑封质量的装置,其特征在于,包括塑封模具,所述塑封模具的塑封料流道和注塑口之间设有两个斜道,从塑封料流道到注塑口之间依次分别为存料斜道和缓冲斜道,两个斜道在塑封料流道与注塑口之间的斜面上形成凹陷结构,注塑口的高度大于现有设计高度,所述注塑口的高度为0.20‑0.24mm。
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