[实用新型]蒸镀对位装置有效

专利信息
申请号: 201721010941.9 申请日: 2017-08-14
公开(公告)号: CN207800649U 公开(公告)日: 2018-08-31
发明(设计)人: 范聪;刘金彪 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;刘伟
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型涉及一种蒸镀对位装置,用于将基板和掩膜板进行对位,包括用于将基板和掩膜板进行紧密贴合的紧密贴合结构。本实用新型的有益效果是:使得基板与掩膜板紧密贴合,有效避免暗影。
搜索关键词: 紧密贴合 掩膜板 基板 本实用新型 对位装置 蒸镀 暗影 对位
【主权项】:
1.一种蒸镀对位装置,用于将基板和掩膜板进行对位,其特征在于,包括用于将基板和掩膜板进行紧密贴合的紧密贴合结构;所述紧密贴合结构包括:连接板,用于与基板远离掩膜板的一面接触,第一移动结构,用于控制所述连接板向靠近基板的方向移动预设距离,或者,控制掩膜板向靠近基板的方向移动预设距离。
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