[实用新型]喷气装置以及包含该喷气装置的生产机台有效
| 申请号： | 201720265850.3 | 申请日： | 2017-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN206574671U | 公开（公告）日： | 2017-10-20 |
| 发明（设计）人： | 安禄炫 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（天津）有限公司;中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人： | 屈蘅,李时云 |
| 地址： | 300385 天津市西青*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种喷气装置以及包含该喷气装置的生产机台，所述喷气装置包括内部具有空腔的喷气管道，所述喷气管道的外壁上开设有与空腔贯通的喷气孔，所述喷气孔的中心轴线与喷气管道的横截面的夹角大于或等于0°且小于90°，且所述喷气孔的中心轴线与喷气管道的中心轴线不相交，令空腔内气体自喷气孔喷出后，不但会形成沿喷气管道径向的径向气流，还会形成沿喷气管道周向的周向气流。气流的周向运动尤其可以搅拌半导体刻蚀机台之反应腔内的等离子体，还可以吹散喷气管道和电场周边聚集的等离子体，使反应腔内等离子体分布均匀，确保硅片的刻蚀质量，同时防止等离子体对喷气管道和其他相关部件的刻蚀效应，延长这些设备的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 喷气 装置 以及 包含 生产 机台 | ||
【主权项】：
一种喷气装置，其特征在于，包括内部具有空腔的喷气管道，所述喷气管道的外壁上开设有与所述空腔贯通的喷气孔，所述喷气孔的中心轴线与所述喷气管道的横截面的夹角大于或等于0°且小于90°，且所述喷气孔的中心轴线与所述喷气管道的中心轴线不相交。
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