[实用新型]一种MOCVD真空烤盘炉有效

专利信息
申请号: 201720026126.5 申请日: 2017-01-11
公开(公告)号: CN206396324U 公开(公告)日: 2017-08-11
发明(设计)人: 陈兴友;魏凯;王雪平;赵万方;门宁锋;朱宇 申请(专利权)人: 西安格美金属材料有限公司
主分类号: C23C16/46 分类号: C23C16/46
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 710089 陕西省西安市阎良*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 实用新型公开了一种MOCVD真空烤盘炉,包括烤盘炉壳体、真空系统、冷却系统、气源系统、上盖、辅助加热器一、侧盖体、辅助加热器二、基盘、加热装置、隔热座、隔热层、旋转座、外锥面、内锥面、连接轴、防护层和电机;本实用新型具有结构合理简单、生产成本低,本实用新型中设置的辅助加热器一和辅助加热器二,能够有效的对基盘上面的空间进行加热,另外电热丝一和电热丝二呈扇形排列,使得整体的加热更加均匀,另外设置的外锥面和内锥面,能够有效的增加旋转座与烤盘炉壳体的接触面积,从而使空气很难进入到烤盘炉壳体内部,保证了真空烤盘炉内部的密封性,另外设置的防护层,能够有效的保证本烤盘炉的安全性,以及操作人员的安全性。
搜索关键词: 一种 mocvd 真空 烤盘炉
【主权项】:
一种MOCVD真空烤盘炉,包括烤盘炉壳体(1)、真空系统(2)、冷却系统(3)、气源系统(4)和上盖(5),所述真空系统(2)、冷却系统(3)和气源系统(4)分别与烤盘炉壳体(1)内部相连接,所述上盖(5)固定连接在烤盘炉壳体(1)顶部,其特征在于:还包括辅助加热器一(6)、侧盖体(7)、辅助加热器二(8)、基盘(9)、加热装置(10)、隔热座(11)、隔热层(12)、旋转座(13)、外锥面(14)、内锥面(15)、连接轴(16)、防护层(17)和电机(18);所述辅助加热器一(6)位于烤盘炉壳体(1)内部顶部,所述辅助加热器一(6)固定连接在上盖(5)底面上;所述辅助加热器二(8)固定连接在烤盘炉壳体(1)内部侧壁上;所述侧盖体(7)设在烤盘炉壳体(1)侧面;所述隔热层(12)固定连接在烤盘炉壳体(1)下侧内部顶面上,所述隔热层(12)底面中央固定连接有电机(18);所述电机(18)上侧输出轴与旋转座(13)下侧中央固定连接;所述旋转座(13)活动连接在烤盘炉壳体(1)内部下侧中央,所述旋转座(13)顶部固定连接有连接轴(16),所述旋转座(13)下侧外部设有外锥面(14);所述外锥面(14)与内锥面(15)相连接;所述内锥面(15)设在烤盘炉壳体(1)下侧内部顶面中央;所述基盘(9)位于烤盘炉壳体(1)内部下侧,所述基盘(9)底部中央固定连接在连接轴(16)顶部;所述加热装置(10)位于基盘(9)下侧,所述加热装置(10)底部固定连接在隔热座(11)上面;所述隔热座(11)固定连接在烤盘炉壳体(1)内部底面上;所述防护层(17)设在烤盘炉壳体(1)外部表面上。
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