[实用新型]一种MOCVD真空烤盘炉

权利要求书

1.一种MOCVD真空烤盘炉，包括烤盘炉壳体(1)、真空系统(2)、冷却系统(3)、气源系统(4)和上盖(5)，所述真空系统(2)、冷却系统(3)和气源系统(4)分别与烤盘炉壳体(1)内部相连接，所述上盖(5)固定连接在烤盘炉壳体(1)顶部，其特征在于：还包括辅助加热器一(6)、侧盖体(7)、辅助加热器二(8)、基盘(9)、加热装置(10)、隔热座(11)、隔热层(12)、旋转座(13)、外锥面(14)、内锥面(15)、连接轴(16)、防护层(17)和电机(18)；

所述辅助加热器一(6)位于烤盘炉壳体(1)内部顶部，所述辅助加热器一(6)固定连接在上盖(5)底面上；

所述辅助加热器二(8)固定连接在烤盘炉壳体(1)内部侧壁上；

所述侧盖体(7)设在烤盘炉壳体(1)侧面；

所述隔热层(12)固定连接在烤盘炉壳体(1)下侧内部顶面上，所述隔热层(12)底面中央固定连接有电机(18)；

所述电机(18)上侧输出轴与旋转座(13)下侧中央固定连接；

所述旋转座(13)活动连接在烤盘炉壳体(1)内部下侧中央，所述旋转座(13)顶部固定连接有连接轴(16)，所述旋转座(13)下侧外部设有外锥面(14)；

所述外锥面(14)与内锥面(15)相连接；

所述内锥面(15)设在烤盘炉壳体(1)下侧内部顶面中央；

所述基盘(9)位于烤盘炉壳体(1)内部下侧，所述基盘(9)底部中央固定连接在连接轴(16)顶部；

所述加热装置(10)位于基盘(9)下侧，所述加热装置(10)底部固定连接在隔热座(11)上面；

所述隔热座(11)固定连接在烤盘炉壳体(1)内部底面上；

所述防护层(17)设在烤盘炉壳体(1)外部表面上。

2.根据权利要求1所述的一种MOCVD真空烤盘炉，其特征在于：所述加热装置(10)具体包括电热丝一(101)、电极柱一(102)、电热丝二(103)、电极柱二(104)和壳体(105)；

所述壳体(105)内部呈扇形设有电热丝一(101)和电热丝二(103)；

所述电热丝一(101)两端分别固定连接有电极柱一(102)；

所述电热丝二(103)两端分别固定连接有电极柱二(104)；

所述电极柱一(102)和电极柱二(104)均固定连接在壳体(105)侧面。

3.根据权利要求1所述的一种MOCVD真空烤盘炉，其特征在于：所述电机(18)为直流减速电机。

4.根据权利要求1所述的一种MOCVD真空烤盘炉，其特征在于：所述防护层(17)由隔热防火材料制成。