[发明专利]一种低辐射镀膜玻璃在审
| 申请号： | 201711451986.4 | 申请日： | 2017-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN109956680A | 公开（公告）日： | 2019-07-02 |
| 发明（设计）人： | 金闯 | 申请（专利权）人： | 太仓斯迪克新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 苏州凯谦巨邦专利代理事务所(普通合伙) 32303 | 代理人： | 丁剑 |
| 地址： | 215400 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基材和成型在所述玻璃基材上的镀膜层，所述镀膜层包括依次沉积在所述玻璃基材上的一第一电介质层、一第一辐射阻隔层、一第一银层、一第二辐射阻隔层、一第二电介质层、一第二银层、一第三辐射阻隔层和一第四电介质层。本发明的各膜层之间粘附力强，镀膜产品机械性能好，抗氧化能力强，且具有遮阳、低辐射等特性。 | ||
| 搜索关键词： | 玻璃基材 电介质层 阻隔层 低辐射镀膜玻璃 镀膜层 银层 辐射 机械性能 抗氧化能力 镀膜产品 低辐射 膜层 粘附 遮阳 沉积 成型 | ||
【主权项】：
1.一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基材和成型在所述玻璃基材上的镀膜层，其特征在于，所述镀膜层包括依次沉积在所述玻璃基材上的一第一电介质层、一第一辐射阻隔层、一第一银层、一第二辐射阻隔层、一第二电介质层、一第二银层、一第三辐射阻隔层和一第四电介质层。
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