[发明专利]一种低辐射镀膜玻璃

说明书

本发明公开了一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基材和成型在所述玻璃基材上的镀膜层，所述镀膜层包括依次沉积在所述玻璃基材上的一第一电介质层、一第一辐射阻隔层、一第一银层、一第二辐射阻隔层、一第二电介质层、一第二银层、一第三辐射阻隔层和一第四电介质层。本发明的各膜层之间粘附力强，镀膜产品机械性能好，抗氧化能力强，且具有遮阳、低辐射等特性。

技术领域

本发明涉及一种特种玻璃，特别是一种低辐射镀膜玻璃。

背景技术

镀膜玻璃也称反射玻璃，是指在玻璃表面涂镀一层或多层金属、合金或金属化合物薄膜，以改变玻璃的光学性能来满足某种特定要求。一般可分为热反射玻璃、低辐射玻璃(Low-E)、导电膜玻璃等。应提倡国家的节能环保及减排的要求，低辐射玻璃的使用最为普遍。例如，在一些特殊的场合，窗玻璃既要求金属化、又需要保持电磁波的透射。同时，不导电金属膜层镀膜玻璃，还能达到半透视可见光、反射红外线，达到室内隔热的作用。普通玻璃阳光透过率很高，但对红外线等反射率却很低，大部分太阳光透过玻璃进入室内，从而会加热物体，而随后这些室内的能量又会以辐射形式通过窗户的玻璃散失掉。现有技术是通过在玻璃上镀低辐射膜或者使用低辐射贴膜，如目前市场上普遍采用的单银低辐射玻璃就是能将太阳光中的红外线排除在外，同时又可以将室内物体二次辐射热反射回去的特种玻璃。但是，现有单银低辐射玻璃在使用过程中，其在性能、遮阳系数、可见光透光率等都无法达到市场对高性能产品的要求，同时产品良品率也较低。

发明内容

为解决现有存在的技术问题，本发明实施例提供了一种低辐射镀膜玻璃，能至少解决现有技术中存在的上述问题。

为了实现上述目的，本发明提供的一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基材和成型在所述玻璃基材上的镀膜层，所述镀膜层包括依次沉积在所述玻璃基材上的一第一电介质层、一第一辐射阻隔层、一第一银层、一第二辐射阻隔层、一第二电介质层、一第二银层、一第三辐射阻隔层和一第四电介质层。

作为优选，所述第一银层及所述第二银层具体为AgTi膜层。

作为优选，所述玻璃基材为透光率大于80～84％的浮法玻璃。

作为优选，该第一电介质层和所述第四电介质层均为Si₃N₄。

作为优选，所述第一辐射阻隔层、第二辐射阻隔层及第三辐射阻隔层的材质均为选自NiCr、NiCrO_x、NiCrN_x或Nb₂O₅中的一种或多种。

作为优选，所述第二电介质层包括设置在所述第二银层靠近所述玻璃基材一侧的缓冲层，以及沉积在所述缓冲层上位于所述第二银层另一侧的第三电介质层。

作为优选，所述第四电介质层进一步包括设置在最外层的第五电介质层，以及沉积在所述第五电介质层与所述第三辐射阻隔层之间的第六电介质层。

作为优选，本发明的低辐射镀膜玻璃的结构依次为：玻璃基材 -Si₃N₄-NiCr-AgTi-NiCr-ZnSnO₃-ZnO-AgTi-NiCr-ZnSnO₃-Si₃N₄。

作为优选，所述第一电介质层的膜层厚度为25～36nm；所述第一辐射阻隔层的厚度为0.6～3.2nm；所述第一银层的厚度10～12nm；所述第二辐射阻隔层的厚度为3～3.5nm；所述第二电介质层的缓冲层的厚度为5～10nm；所述第二电介质层的第三电介质层的厚度为66～80nm；所述第二银层的厚度为 16～18nm；该第四电介质层的第五电介质层的厚度为16～20nm；该第四电介质层的第六电介质层的厚度为12～15nm。

与现有技术比较，本发明的低辐射镀膜玻璃的膜系的各膜层之间粘附力强，镀膜产品机械性能好，抗氧化能力强，且具有遮阳、低辐射等特性。