[发明专利]一种黑色矩阵的制作方法在审
| 申请号： | 201711448048.9 | 申请日： | 2017-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN107991803A | 公开（公告）日： | 2018-05-04 |
| 发明（设计）人： | 邱军辉;宋江江;沈顺杰 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙)44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种黑色矩阵的制作方法，包括如下步骤提供一基板，所述基板上设置有对位标记；在所述基板上涂覆一黑色矩阵薄膜；将涂覆有黑色矩阵薄膜的所述基板放入曝光机中，并对所述基板进行预对位，将所述标记装置移动到所述对位标记的上方，进行标记处理，得到光阻标记；根据所述光阻标记识别所述对位标记的位置，进行精确对位后，图案化所述黑色矩阵薄膜，形成黑色矩阵。本发明提供了一种黑色矩阵的制作方法，在对基板进行预对位之前，通过标记装置将对位标记上方的黑色光阻进行厚度薄化或去除，从而方便了所述对位标记的识别，进而提高了黑色矩阵的制作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 黑色 矩阵 制作方法 | ||
【主权项】：
一种黑色矩阵的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤S10、提供一基板，所述基板上设置有对位标记；步骤S20、在所述基板上涂覆一黑色矩阵薄膜，所述黑色矩阵薄膜由黑色光阻制备；步骤S30、将涂覆有所述黑色矩阵薄膜的所述基板放入曝光机中，并对所述基板进行预对位，然后将所述曝光机的标记装置移动到所述对位标记的上方，对所述对位标记上方所对应的黑色光阻进行标记处理，得到光阻标记；步骤S40、根据所述光阻标记识别所述对位标记的位置，进行精确对位后，图案化所述黑色矩阵薄膜，形成黑色矩阵。
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