[发明专利]发光装置在审

专利信息
申请号: 201711419284.8 申请日: 2017-12-25
公开(公告)号: CN108242442A 公开(公告)日: 2018-07-03
发明(设计)人: 山本敦司;大野惠子 申请(专利权)人: 日亚化学工业株式会社
主分类号: H01L25/075 分类号: H01L25/075;H01L33/60
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 张思宝
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供一种发光装置,其为直下型,厚度更小。发光装置具有:基板(10);多个光源(20),其位于基板上,具有设有光反射层(24)的上表面;光扩散板(70),其位于多个光源的上方;波长转换层(30A),其至少位于多个光源与光扩散板之间,吸收来自多个光源的光的至少一部分而发出与来自多个光源的光不同波长的光;多个漫反射部(50),其设置在波长转换层的光扩散板侧的表面上,分别位于多个光源的上表面的至少一部分的上方。
搜索关键词: 光源 发光装置 光扩散板 波长转换层 上表面 基板 光反射层 漫反射部 直下型 波长 吸收
【主权项】:
1.一种发光装置,其特征在于,具有:基板;多个光源,其位于所述基板上,具有设有光反射层的上表面;光扩散板,其位于所述多个光源的上方;波长转换层,其至少位于所述多个光源与所述光扩散板之间,吸收来自所述多个光源的光的至少一部分而发出与来自所述多个光源的光不同波长的光;多个漫反射部,其设置在所述波长转换层的所述光扩散板侧的表面上,分别位于所述多个光源的所述上表面的至少一部分的上方。
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