[发明专利]信息显示用柔性多层透明导电薄膜的制备方法在审
| 申请号： | 201711415407.0 | 申请日： | 2017-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN108179391A | 公开（公告）日： | 2018-06-19 |
| 发明（设计）人： | 彭寿;杨勇;姚婷婷;金克武;李刚;沈洪雪;杨扬;王天齐;甘治平;马立云 | 申请（专利权）人： | 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/08;C23C14/06;C23C14/14;H01B5/14 |
| 代理公司： | 安徽省蚌埠博源专利商标事务所 34113 | 代理人： | 陈俊 |
| 地址： | 233010 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开信息显示用柔性多层透明导电薄膜的制备方法，包括以下步骤：清洗柔性衬底并吹干；采用磁控溅射工艺，在柔性衬底顶面依次沉积下SiO2层、下Si3N4层与下TiO2层；在下TiO2层顶面蒸发沉积AgPt合金层，并对AgPt合金层进行Ar等离子辐照；采用磁控溅射工艺，在AgPt合金层顶面依次沉积上TiO2层、上Si3N4层与上SiO2层，最终得到所述柔性多层透明导电薄膜；由SiO2、Si3N4与TiO2构成的复合介质层结构，具有梯度化匹配的折射率，使整个膜系具有更加优良的光学透过率；AgPt合金层作为导电层，能有效的提高整个膜系的力学柔韧性和抗弯折能力，AgPt合金层经过等离子体辐照处理，使整个复合膜系具有更好的透过率和导电性。 | ||
| 搜索关键词： | 合金层 多层透明导电薄膜 磁控溅射工艺 顶面 膜系 沉积 制备 等离子体辐照 导电性 等离子辐照 复合介质层 光学透过率 柔韧性 衬底顶面 公开信息 信息显示 蒸发沉积 导电层 复合膜 抗弯折 梯度化 透过率 折射率 衬底 吹干 力学 匹配 清洗 | ||
【主权项】：
1.信息显示用柔性多层透明导电薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、清洗柔性衬底并吹干；S2、采用磁控溅射工艺，在柔性衬底顶面沉积下SiO2层；S3、采用磁控溅射工艺，在下SiO2层顶面沉积下Si3N4层；S4、采用磁控溅射工艺，在下Si3N4层顶面沉积下TiO2层；S5、将步骤S4得到的薄膜放入电子束设备中，在下TiO2层顶面蒸发沉积AgPt合金层；S6、将步骤S5得到的薄膜放在真空腔内，对AgPt合金层进行Ar等离子辐照，Ar流量为30～60sccm，真空腔压力5～10Pa，辐照功率20～40W，辐照时间10～30s；S7、采用磁控溅射工艺，在AgPt合金层顶面沉积上TiO2层；S8、采用磁控溅射工艺，在上TiO2层顶面沉积上Si3N4层；S9、采用磁控溅射工艺，在上Si3N4层顶面沉积上SiO2层，最终得到所述柔性多层透明导电薄膜。
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