[发明专利]微细脉冲电子束抛光系统在审
| 申请号： | 201711324141.9 | 申请日： | 2017-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN108063081A | 公开（公告）日： | 2018-05-22 |
| 发明（设计）人： | 胡静;张瑞雪;赵万生 | 申请（专利权）人： | 上海交通大学 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海交达专利事务所 31201 | 代理人： | 王毓理;王锡麟 |
| 地址： | 200240 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种微细脉冲电子束抛光系统，包括：依次相连的赝火花电子束源、真空舱和支撑平台，以及设置于真空舱内的静电聚焦系统、静电偏转系统和实现待抛光工件三个维度运动的运动平台，其中：待抛光工件设置于运动平台上，由赝火花电子束源产生电子束，经过静电聚焦系统形成小束斑的电子束，在静电偏转场的作用下电子束可以沿任意方向偏转，运动平台带动工件在三个方向运动，使电子束和待抛光工件表面形成相对运动，电子束到达工件表面后与工件表面层相互作用，实现工件表面的抛光。本发明采用具有更高优势的电子束‑基于赝火花放电机制的高频微细脉冲电子束以扫描方式进行辐照抛光。 | ||
| 搜索关键词： | 微细 脉冲 电子束 抛光 系统 | ||
【主权项】：
1.一种微细脉冲电子束抛光系统，其特征在于，包括：依次相连的赝火花电子束源、真空舱和支撑平台，以及设置于真空舱内的静电聚焦系统、静电偏转系统和实现待抛光工件三个维度运动的运动平台，其中：待抛光工件设置于运动平台上，由赝火花电子束源产生电子束，经过静电聚焦系统形成小束斑的电子束，在静电偏转场的作用下电子束可以沿任意方向偏转，运动平台带动工件在三个方向运动，使电子束和待抛光工件表面形成相对运动，电子束到达工件表面后与工件表面层相互作用，实现工件表面的抛光。
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