[发明专利]一种背照式图像传感器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201711316107.7 申请日: 2017-12-12
公开(公告)号: CN108231809A 公开(公告)日: 2018-06-29
发明(设计)人: 龟井诚司 申请(专利权)人: 上海集成电路研发中心有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 代理人: 吴世华;陈慧弘
地址: 201210 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种背照式图像传感器及其制备方法,包括M个像素单元,每个像素单元包括微透镜、彩色滤光片、感光衬底和布线衬底,所述感光衬底位于布线衬底的上方,所述感光衬底中包括光电二极管以及环绕光电二极管的深沟槽隔离,所述深沟槽隔离的底部与光电二极管的底部平行,且所述深沟槽隔离中填充光屏蔽层;所述彩色滤光片位于感光衬底的上方,所述微透镜覆盖于彩色滤光片的上方且位于光电二极管的垂直上方。本发明可以很好地避免相邻像素之间的串扰,并且精确控制光电二极管与微透镜之间的关系,提高背照式图像传感器的入射率以及光电转换效率。
搜索关键词: 衬底 光电二极管 感光 背照式图像传感器 彩色滤光片 深沟槽隔离 微透镜 像素单元 布线 制备 光电转换效率 光屏蔽层 相邻像素 串扰 入射 填充 平行 垂直 环绕 覆盖
【主权项】:
1.一种背照式图像传感器,包括M个像素单元,每个像素单元包括微透镜、彩色滤光片、感光衬底和布线衬底,其特征在于,所述感光衬底位于布线衬底的上方,所述感光衬底中包括光电二极管以及环绕光电二极管的深沟槽隔离,所述深沟槽隔离的底部与光电二极管的底部平行,且所述深沟槽隔离中填充光屏蔽层;所述彩色滤光片位于感光衬底的上方,所述微透镜覆盖于彩色滤光片的上方且位于光电二极管的垂直上方,其中,M为大于等于1的整数。
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