[发明专利]一种大面积、高反射率氮化镓/纳米多孔氮化镓分布布拉格反射镜的制备方法

摘要

本发明涉及一种大面积、高反射率氮化镓/纳米多孔氮化镓分布布拉格反射镜的制备方法。该方法包括采用电化学刻蚀法，以生长在c‑面蓝宝石衬底上的UID‑GaN/n‑GaN周期性结构为阳极，以Pt电极为阴极，在NaNO3、氯化钠(NaCl)或硫酸钠(Na2SO4)中性电解液中制备氮化镓/纳米多孔氮化镓分布布拉格反射镜。该反射镜表面光滑平整，可满足2英寸及以上的产品需要，在可见光区的某波段反射率可超过95％。用于制备氮化镓基垂直腔面发射激光器和发光二极管等器件。

主权项

一种氮化镓/纳米多孔氮化镓分布布拉格反射镜的制备方法，采用电化学刻蚀技术，以中性溶液为电解液，对生长在c‑面蓝宝石衬底上的UID‑GaN(0001)/n‑GaN(0001)周期性结构进行表面刻蚀；所述中性溶液为硝酸钠(NaNO3)、氯化钠(NaCl)或硫酸钠(Na2SO4)的水溶液；所述UID‑GaN(0001)/n‑GaN(0001)周期数为6‑15。