[发明专利]对准标记、基板及其制作方法、曝光对准方法有效
| 申请号： | 201711242791.9 | 申请日： | 2017-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN109856930B | 公开（公告）日： | 2021-05-25 |
| 发明（设计）人： | 麻清琳;赵宝杰;周聪慧;王丽;李坚;赵言;惠翔;王雄伟;马春红 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 彭久云 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种对准标记、基板及其制作方法、曝光对准方法。该对准标记包括对准区域、周边区域和遮挡区域。对准区域具有外轮廓；周边区域至少围绕部分所述对准区域的外轮廓设置；遮挡区域围绕所述对准区域的外轮廓设置，且不与所述周边区域重合；所述对准区域和所述遮挡区域是不透明的，所述周边区域至少是部分透明的。该对准标记可以使得曝光机更准确地获取对准标记的位置，从而提高基板与掩模板对位的准确性。同时，该对准标记还减少对准错误的报警，提高生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 对准 标记 及其 制作方法 曝光 方法 | ||
【主权项】：
1.一种对准标记，包括：对准区域，具有外轮廓；周边区域，至少围绕部分所述对准区域的外轮廓设置；以及遮挡区域，至少围绕部分所述对准区域的外轮廓设置，且不与所述周边区域重合；其中，所述对准区域和所述遮挡区域是不透明的，所述周边区域至少是部分透明的。
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