[发明专利]一种气相沉积炉用均匀进气的装置在审
| 申请号： | 201711105351.9 | 申请日： | 2017-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN107699865A | 公开（公告）日： | 2018-02-16 |
| 发明（设计）人： | 刘梦珠;冯锋;王鹏;左新章;姜伟光;李建章;成来飞 | 申请（专利权）人： | 西安鑫垚陶瓷复合材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司61211 | 代理人： | 唐沛 |
| 地址： | 710065 陕西省西安*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种气相沉积炉用均匀进气的装置，包括均位于沉积炉内的进气管路和集气罩；进气管路一端与沉积炉的进气口固定连通，另一端与集气罩固定连通，集气罩的表面开设有多个出气孔。当气体经过进气管路进入集气罩，然后从集气罩若干个出气孔排入沉积炉内。使用该装置可以保证多种进气组分在集气罩内充分混合，从集气罩四周均匀的排出,确保了沉积炉内温度的均匀性，进一步的保证了沉积效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 沉积 均匀 装置 | ||
【主权项】：
一种气相沉积炉用均匀进气的装置，其特征在于：包括均位于沉积炉内的进气管路和集气罩；进气管路一端与沉积炉的进气口固定连通，另一端与集气罩固定连通，集气罩的表面开设有多个出气孔。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
