[发明专利]一种抛光液及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 201711103154.3 | 申请日： | 2017-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN107936849B | 公开（公告）日： | 2020-09-15 |
| 发明（设计）人： | 金炳生;高小云;刘兵 | 申请（专利权）人： | 苏州晶瑞化学股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/04 | 分类号： | C09G1/04 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 汪青 |
| 地址： | 215214 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种抛光液及其制备方法和应用，以质量百分含量计，抛光液由以下组分组成：无机碱性化合物1～20％，添加剂0.1～1％，余量为去离子水；添加剂由以下组分组成：异辛醇聚氧乙烯醚磷酸酯0.01～0.5％，烷基多糖苷0.5～5％，余量为去离子水；制备方法：1)按照添加剂中各组分的质量占比称取各组分，然后将各组分相混合，即得添加剂；2)按照抛光液中各组分的质量占比称取各原料，先将无机碱性化合物加入去离子水中，然后再与步骤(1)制备的添加剂相混合，即得抛光液；应用：抛光液在金刚线切割多晶硅片后抛光过程中的应用；本发明的抛光液具有使被处理后的多晶硅减薄量极少，还能间接地提升光电转化率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抛光 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
一种抛光液，用于金刚线切割多晶硅后的抛光处理，其特征在于，以质量百分含量计，所述抛光液由以下组分组成：无机碱性化合物1～20％，添加剂0.1～1％，余量为去离子水；其中，以质量百分含量计，所述添加剂由以下组分组成：异辛醇聚氧乙烯醚磷酸酯0.01～0.5％，烷基多糖苷0.5～5％，余量为去离子水。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州晶瑞化学股份有限公司，未经苏州晶瑞化学股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201711103154.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种碳纤维光纤复合架空相线
- 下一篇：一种家居用品皮革增光剂
