[发明专利]一种抛光液及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种抛光液，用于金刚线切割多晶硅后的抛光处理，其特征在于，以质量百分含量计，所述抛光液由以下组分组成：无机碱性化合物 1~20%，添加剂 0.1~1%，余量为去离子水；

其中，以质量百分含量计，所述添加剂由以下组分组成：异辛醇聚氧乙烯醚磷酸酯0.01~0.5%，烷基多糖苷 0.5~5%，余量为去离子水；

所述无机碱性化合物为氢氧化钠和/或氢氧化钾，所述异辛醇聚氧乙烯醚磷酸酯为AEP-98，所述烷基多糖苷为APG0810。

2.根据权利要求1所述的抛光液，其特征在于，以质量百分含量计，所述抛光液由以下组分组成：无机碱性化合物5~15%，添加剂 0.1~0.6 %，余量为去离子水。

3.根据权利要求2所述的抛光液，其特征在于，以质量百分含量计，所述抛光液由以下组分组成：无机碱性化合物8~12%，添加剂 0.1~0.3%，余量为去离子水。

4.根据权利要求1-3中任一项权利要求所述的抛光液，其特征在于，以质量百分含量计，所述添加剂由异辛醇聚氧乙烯醚磷酸酯 0.01~0.3%，烷基多糖苷 0.5~3%，余量为去离子水。

5.根据权利要求4所述的抛光液，其特征在于，以质量百分含量计，所述添加剂由异辛醇聚氧乙烯醚磷酸酯 0.01~0.1%，烷基多糖苷 0.5~3%，余量为去离子水。

6.一种权利要求1-5中任一项权利要求所述的抛光液的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：

（1）添加剂的制备：按照所述添加剂中各组分的质量占比称取各组分，然后将各组分相混合，搅拌，即得；

（2）抛光液的制备：按照所述抛光液中各组分的质量占比称取所述无机碱性化合物、所述步骤（1）制备的添加剂和所述去离子水，先将所述无机碱性化合物加入所述去离子水中，然后再与所述步骤（1）制备的添加剂相混合，即得。

7.一种权利要求1-5中任一项权利要求所述的抛光液在金刚线切割多晶硅片后抛光过程中的应用。