[发明专利]掩膜组件及其制造方法有效
申请号: | 201711102683.1 | 申请日: | 2017-11-10 |
公开(公告)号: | CN107699854B | 公开(公告)日: | 2019-09-17 |
发明(设计)人: | 郭登俊;王永茂;张文畅 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/24 |
代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人: | 滕一斌 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种掩膜组件及其制造方法,属于显示技术领域。掩膜组件包括:框架,以及层叠设置在框架上的第一掩膜板和第二掩膜板;第二掩膜板上具有至少一个蒸镀区域,每个蒸镀区域具有形状相同的多个蒸镀孔;第一掩膜板包括交叉排布的多个条状掩膜板,交叉排布的多个条状掩膜板围成至少一个开口区域,至少一个开口区域与至少一个蒸镀区域一一对应,至少一个开口区域包括至少一个异形开口区域,每个异形开口区域在第二掩膜板上的正投影位于对应的蒸镀区域内。本发明解决了相关技术中采用掩膜组件制造出的显示面板的显示可靠性较低的问题。本发明用于掩膜组件的制造。 | ||
搜索关键词: | 组件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种掩膜组件,其特征在于,所述掩膜组件包括:框架,以及层叠设置在所述框架上的第一掩膜板和第二掩膜板;所述第二掩膜板上具有至少一个蒸镀区域,每个所述蒸镀区域具有形状相同的多个蒸镀孔;所述第一掩膜板包括交叉排布的多个条状掩膜板,所述交叉排布的多个条状掩膜板围成至少一个开口区域,所述至少一个开口区域与所述至少一个蒸镀区域一一对应,所述至少一个开口区域包括至少一个异形开口区域,每个所述异形开口区域在所述第二掩膜板上的正投影位于对应的蒸镀区域内;所述框架为金属框架,所述第一掩膜板焊接在所述金属框架上,所述第二掩膜板焊接在所述第一掩膜板上。
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