[发明专利]掩膜组件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201711102683.1 申请日: 2017-11-10
公开(公告)号: CN107699854B 公开(公告)日: 2019-09-17
发明(设计)人: 郭登俊;王永茂;张文畅 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 滕一斌
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 组件 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种掩膜组件,其特征在于,所述掩膜组件包括:

框架,以及层叠设置在所述框架上的第一掩膜板和第二掩膜板;

所述第二掩膜板上具有至少一个蒸镀区域,每个所述蒸镀区域具有形状相同的多个蒸镀孔;

所述第一掩膜板包括交叉排布的多个条状掩膜板,所述交叉排布的多个条状掩膜板围成至少一个开口区域,所述至少一个开口区域与所述至少一个蒸镀区域一一对应,所述至少一个开口区域包括至少一个异形开口区域,每个所述异形开口区域在所述第二掩膜板上的正投影位于对应的蒸镀区域内;

所述框架为金属框架,所述第一掩膜板焊接在所述金属框架上,所述第二掩膜板焊接在所述第一掩膜板上。

2.根据权利要求1所述的掩膜组件,其特征在于,所述第二掩膜板包括至少一个蒸镀区域和围绕在每个所述蒸镀区域周围的缓冲区域,

所述第一掩膜板包括至少一个异形条状掩膜板,所述至少一个异形条状掩膜板用于围成所述至少一个异形开口区域;

所述异形条状掩膜板包括条形结构,以及从所述条形结构的边缘向外延伸的凸起结构,所述条形结构在所述第二掩膜板上的正投影位于所述缓冲区域内,所述凸起结构在所述第二掩膜板上的正投影与所述蒸镀区域至少部分重合。

3.根据权利要求2所述的掩膜组件,其特征在于,所述至少一个开口区域均为异形开口区域,所述第一掩膜板包括沿第一方向阵列排布的第一条状掩膜板和沿第二方向阵列排布的第二条状掩膜板,所述第一方向和所述第二方向垂直,

所有所述第一条状掩膜板和/或所有所述第二条状掩膜板均为所述异形条状掩膜板。

4.根据权利要求2或3所述的掩膜组件,其特征在于,

用于围成每个所述异形开口区域的每个异形条状掩膜板上的指定位置设置有所述凸起结构,所述指定位置为与其他条状掩膜板的交叉处中靠近对应的异形开口区域的边缘。

5.根据权利要求4所述的掩膜组件,其特征在于,所述蒸镀区域呈矩形,所述缓冲区域呈矩形环状,所述异形开口区域呈圆角矩形。

6.根据权利要求5所述的掩膜组件,其特征在于,

每个所述凸起结构呈曲边梯形,所述曲边梯形包括相互平行的两条底边和分别与所述两条底边相连的两条曲边,所述两条曲边在所述第二掩膜板上的正投影位于所述蒸镀区域内,所述两条底边在所述第二掩膜板上的正投影位于所述缓冲区域内。

7.根据权利要求5所述的掩膜组件,其特征在于,

每个所述凸起结构呈曲边三角形,所述曲边三角形包括至少一条曲边,所述至少一条曲边中的目标曲边在所述第二掩膜板上的正投影位于所述蒸镀区域内,所述曲边三角形中除所述目标曲边以外的其他边在所述第二掩膜板上的正投影位于所述缓冲区域内。

8.根据权利要求1所述的掩膜组件,其特征在于,

所述第一掩膜板为金属屏蔽片掩膜板,所述第二掩膜板为精细金属掩膜板。

9.一种掩膜组件的制造方法,其特征在于,所述方法包括:

提供框架;

在所述框架上设置第一掩膜板,所述第一掩膜板包括交叉排布的多个条状掩膜板,所述交叉排布的多个条状掩膜板围成至少一个开口区域,所述至少一个开口区域包括至少一个异形开口区域;

在所述第一掩膜板上设置第二掩膜板,所述第二掩膜板上具有至少一个蒸镀区域,每个所述蒸镀区域具有形状相同的多个蒸镀孔;

其中,所述至少一个开口区域与所述至少一个蒸镀区域一一对应,每个所述异形开口区域在所述第二掩膜板上的正投影位于对应的蒸镀区域内;

所述框架为金属框架,所述在所述框架上设置第一掩膜板,包括:

将所述第一掩膜板焊接在所述框架上;

所述在所述第一掩膜板上设置第二掩膜板,包括:

将所述第二掩膜板焊接在所述第一掩膜板上。

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