[发明专利]一种制备金刚线切割的多晶电池片的方法在审
申请号: | 201711037192.3 | 申请日: | 2017-10-30 |
公开(公告)号: | CN107833930A | 公开(公告)日: | 2018-03-23 |
发明(设计)人: | 吴文州;张金宝;吴建新 | 申请(专利权)人: | 永嘉利为新能源有限公司 |
主分类号: | H01L31/0236 | 分类号: | H01L31/0236;H01L31/0368;H01L31/18 |
代理公司: | 宁波浙成知识产权代理事务所(特殊普通合伙)33268 | 代理人: | 王明超 |
地址: | 325102 浙江省温州市永嘉县东*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种制备金刚线切割的多晶电池片的方法,包括以下步骤S1、多晶硅片的常规表面清洗、晒干;S2、使用多晶添加剂和氢氧化钠的碱性混合溶液对处理后的多晶硅片进行腐蚀处理;S3、使用氢氟酸和硝酸银的混合溶液在多晶硅片表面反应形成一层银颗粒;S4、使用氢氟酸和双氧水的混合溶液在多晶硅片表面反应形成微纳米结构的黑绒面;S5、使用氢氟酸和硝酸的酸性混合溶液在处理后的多晶硅片表面反应形成600‑700nm蜂窝状的凹凸结构;S6、使用氨水和双氧水的混合溶液处理完成的多晶硅片表面,去除银离子;S7、去离子水清洗并风干。本方案具有制备步骤较少,能大规模生产的同时生产成本较低、生产周期较短等优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 制备 金刚 切割 多晶 电池 方法 | ||
【主权项】:
一种制备金刚线切割的多晶电池片的方法,其特征在于,依次包括以下步骤:S1、多晶硅片的常规表面清洗、晒干;S2、使用多晶添加剂和氢氧化钠的碱性混合溶液对处理后的多晶硅片进行腐蚀处理;S3、使用氢氟酸和硝酸银的混合溶液在多晶硅片表面反应形成一层银颗粒;S4、使用氢氟酸和双氧水的混合溶液在多晶硅片表面反应形成微纳米结构的黑绒面;S5、使用氢氟酸和硝酸的酸性混合溶液在处理后的多晶硅片表面反应形成600‑700nm蜂窝状的凹凸结构;S6、使用氨水和双氧水的混合溶液处理完成的多晶硅片表面,去除银离子;S7、去离子水清洗并风干处理完成的多晶硅片表面。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的