[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示装置

摘要

本发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置，属于显示技术领域。本发明的阵列基板的制备方法，包括：在基底上形成第一材料层；第一材料层至少包括靠近基底侧的亲水材料层；通过构图工艺形成具有容纳部的第一膜层；其中，容纳部贯穿第一材料层；第一膜层包括亲水层；在第一膜层上形成第二膜层，第二膜层至少位于容纳部侧边上，且与容纳部所底部所在平面之间设置有预定距离，并与亲水层接触；其中，第二膜层的材料包括疏水材料。因此，在容纳部中形成有机功能层时，虽然第一膜层中的亲水材料对有机功能层有拉力，但是此时第二膜层中的疏水材料对该有机功能层有排斥力，有机功能层在这两个力的作用下，使得其均一性增加。

主权项

1.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括：形成像素限定层，其中，所述形成像素限定层包括：在基底上形成第一材料层；所述第一材料层至少包括靠近所述基底侧的亲水材料层；通过构图工艺形成具有容纳部的第一膜层；其中，所述容纳部贯穿所述第一材料层；所述第一膜层包括亲水层；在所述第一膜层上形成第二膜层，所述第二膜层至少位于所述容纳部侧边上，且与所述容纳部的底部所在平面之间设置有预定距离，并与所述亲水层接触；其中，所述第二膜层的材料包括疏水材料。