[发明专利]通过减少和去除金属氧化物形成接触和互连的系统和方法有效
| 申请号： | 201710990980.8 | 申请日： | 2017-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN107978510B | 公开（公告）日： | 2023-06-23 |
| 发明（设计）人： | 拉伊汉·塔拉夫达尔;施卢蒂·托姆贝尔;罗郑石;拉什纳·胡马雍;基乌金·史蒂文·莱 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | H01L21/02 | 分类号： | H01L21/02;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 樊英如;邱晓敏 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及通过减少和去除金属氧化物形成接触和互连的系统和方法。一种在阻挡层上沉积金属层的方法包括：a)将衬底布置在处理室中。衬底已暴露于空气和/或氧化化学品中的至少一种，并且包含阻挡层和一个或多个下伏层，其中所述阻挡层包含选自由氮化钽、氮化钛、钽和钛组成的群组中的材料。所述方法包括：b)将选自由肼、包含氟物质的气体、包含氯物质的气体、肼的衍生物、氨、一氧化碳、包含脒基的气体和/或包含金属有机配体的气体组成的群组中的气体提供至所述处理室持续预定时间段以从所述阻挡层去除氧化。所述方法包括：c)在b)之后在所述阻挡层上沉积金属层。所述金属层包含选自由钴、铜、钨、钌、铑、钼和镍组成的群组中的金属。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 减少 去除 金属 氧化物 形成 接触 互连 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种在阻挡层上沉积金属层的方法，其包括：a)将衬底布置在处理室中，其中所述衬底已暴露于空气和/或氧化化学品中的至少一种，并且包含阻挡层和一个或多个下伏层，其中所述阻挡层包含选自由氮化钽、氮化钛、钽和钛组成的群组中的材料；b)将选自由肼、包含氟物质的气体、包含氯物质的气体、肼的衍生物、氨、一氧化碳、包含脒基的气体和/或包含金属有机配体的气体组成的群组中的气体提供至所述处理室持续预定时间段以从所述阻挡层去除氧化；以及c)在b)之后在所述阻挡层上沉积金属层，其中所述金属层包含选自由钴、铜、钨、钌、铑、钼和镍组成的群组中的金属。
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