[发明专利]一种墨水的制备方法与应用、及顶发射器件的封装方法在审
| 申请号： | 201710972319.4 | 申请日： | 2017-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN109686871A | 公开（公告）日： | 2019-04-26 |
| 发明（设计）人： | 辛征航;向超宇;李乐;张滔;张东华;邓天旸 | 申请（专利权）人： | TCL集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L51/56 | 分类号： | H01L51/56;H01L51/54;H01L51/52;H01L33/56 |
| 代理公司： | 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 | 代理人： | 王永文;刘文求 |
| 地址： | 516006 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种墨水的制备方法与应用、及顶发射器件的封装方法，其中，将质量比为1：2~5：1的PHPS和PSZ混合于溶剂中，反应0.5~1.5h，制备得到所述墨水。本发明以PHPS和PSZ为原料，通过水解、热解及光固化等形成SiO2薄膜，利用其高效隔绝水氧能力，从而起到保护发光器件内部有机材料的作用。另外，通过PSZ的方式对PHPS进行改性，从而在PHPS中引入甲基基团，进而提高封装层的结合力，及抗划伤能力，提高器件稳定性。此外，制备及处理过程可与现有的溶液制备方法相结合，且低要求的后处理有助于减少对器件光电性能的影响。封装层透光率可达95%，适用于高开口率的顶发射器件。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 顶发射 墨水 封装层 封装 器件稳定性 后处理 发光器件 光电性能 甲基基团 溶液制备 有机材料 光固化 结合力 开口率 抗划伤 透光率 质量比 溶剂 改性 热解 水解 水氧 应用 引入 | ||
【主权项】：
1.一种墨水的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：将质量比为1：2~5：1的PHPS和PSZ混合于溶剂中，反应制备得到所述墨水。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件；专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的；具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射；专门适用于将这些辐射能转换为电能，或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的，如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
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