[发明专利]可提高写入效能的非易失性存储单元有效

专利信息
申请号: 201710972238.4 申请日: 2017-10-18
公开(公告)号: CN108807388B 公开(公告)日: 2021-03-02
发明(设计)人: 陈冠勋;苏婷婷 申请(专利权)人: 力旺电子股份有限公司
主分类号: H01L27/112 分类号: H01L27/112
代理公司: 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 代理人: 江耀纯
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种非易失性存储单元,包含一选择栅极晶体管、一跟随栅极晶体管及一逆熔丝可变电容,耦合串接在有源区域上;一第一离子井及一第二离子井,具有第一导电型,设于有源区域,其中跟随栅极晶体管与第一离子井部分重叠,其中第二离子井的掺杂浓度小于第一离子井的掺杂浓度。
搜索关键词: 提高 写入 效能 非易失性 存储 单元
【主权项】:
1.一种非易失性存储单元,其特征在于,包含:一硅衬底,具有一第一导电型,其中所述硅衬底包含一有源区域,被一沟道绝缘区域围绕;一选择栅极晶体管、一跟随栅极晶体管及一逆熔丝可变电容,耦合串接在所述有源区域上,其中所述跟随栅极晶体管设置在所述选择栅极晶体管与所述逆熔丝可变电容中间;一第一离子井,具有所述第一导电型,设于所述有源区域,其中所述跟随栅极晶体管与所述第一离子井部分重叠;以及一第二离子井,具有所述第一导电型,设于所述有源区域并与所述第一离子井相连,其中所述第二离子井的掺杂浓度小于所述第一离子井的掺杂浓度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于力旺电子股份有限公司,未经力旺电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710972238.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top