[发明专利]一种离线光刻方法及系统在审
申请号: | 201710909075.5 | 申请日: | 2017-09-29 |
公开(公告)号: | CN109581816A | 公开(公告)日: | 2019-04-05 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 长鑫存储技术有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F7/16;G03F7/26 |
代理公司: | 北京市铸成律师事务所 11313 | 代理人: | 张臻贤;戴国琛 |
地址: | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种离线光刻方法,包括:自动物料搬送单元传送晶圆至多个涂胶机;根据至少一个光刻机的被占用情况,通过自动物料搬送单元将晶圆优先传送至未被占用的任一光刻机;根据多个显影机的被占用情况,通过自动物料搬送单元将晶圆优先传送至未被占用的任一显影机;自动物料搬送单元将晶圆传送至次制程设备、轨道下存储单元或存储货架。本发明还提供一种离线光刻系统,包括:多个涂胶机、至少一个光刻机、多个显影机、自动物料搬送单元、中央控制单元,其中,中央控制单元沟通连接至多个涂胶机、光刻机、多个显影机。本发明的离线光刻方法,减少了昂贵的光刻设备的闲置,提高了光刻生产效率。 | ||
搜索关键词: | 搬送单元 光刻机 显影机 晶圆 离线 涂胶机 传送 光刻 中央控制单元 存储单元 存储货架 光刻设备 光刻生产 光刻系统 制程设备 闲置 轨道 | ||
【主权项】:
1.一种离线光刻方法,其特征在于,包括:自动物料搬送单元传送晶圆至多个涂胶机;多个所述涂胶机分别对所述晶圆进行涂胶及涂胶后固化;根据至少一个光刻机的被占用的情况,通过所述自动物料搬送单元将涂胶后固化后的所述晶圆优先传送至未被占用的任一所述光刻机进行曝光;根据多个显影机的被占用的情况,通过所述自动物料搬送单元将曝光后的所述晶圆优先传送至未被占用的任一所述显影机进行曝光后固化及显影;以及所述自动物料搬送单元将显影后的所述晶圆传送至次制程设备、暂存于所述自动物料搬送单元的轨道下存储单元或存储货架。
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