[发明专利]非易失性半导体存储装置有效
申请号: | 201710897082.8 | 申请日: | 2017-09-28 |
公开(公告)号: | CN107871527A | 公开(公告)日: | 2018-04-03 |
发明(设计)人: | 津村和宏 | 申请(专利权)人: | 精工半导体有限公司 |
主分类号: | G11C17/18 | 分类号: | G11C17/18;H01L27/112 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 何欣亭,郑冀之 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 面积较小的一次性可编程半导体存储装置,利用CMOS工艺中能够寄生的PNPN,使两端以外的N、或两端以外的P处于浮动状态,从而使得流过PNPN电流、并将利用该电流的电阻的热破坏用作为存储元件。 | ||
搜索关键词: | 非易失性 半导体 存储 装置 | ||
【主权项】:
一种非易失性半导体存储装置,其特征在于具有:设置在半导体衬底的第一第一导电型区域;与所述第一第一导电型区域相接的第一第二导电型区域;形成在所述第一第一导电型区域内的第二第二导电型区域;以及形成在所述第一第二导电型区域内的第二第一导电型区域,所述第一第一导电型区域与第二导电型电位电连接,在此,第二导电型电位在N型电位时为VSS、在P型电位时为VDD,所述第二第一导电型区域在中间夹着电阻而与第一导电型电位连接,所述第一第二导电型区域在中间夹着开关而与第一导电型电位连接,若所述开关导通,则所述第一第二导电型区域与第一导电型电位电连接,在此,第一导电型电位在N型电位时为VSS、在P型电位时为VDD,若所述开关截止,则所述第一第二导电型区域成为浮动状态,在使所述开关导通的状态下,从所述第二第二导电型区域进行电流注入的情况下,不进行数据的写入,在使所述开关截止的状态下,从所述第二第二导电型区域进行电流注入的情况下,利用PNPN电流流动的情况而进行数据的写入。
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