[发明专利]沉积掩模、沉积装置及制造显示装置的方法

摘要

公开了沉积掩模、沉积装置及制造显示装置的方法，该沉积掩模包括第一区域、凹部区域和图案部分，其中：第一区域限定夹持部分，夹持部分位于沉积掩模的端部处并且被施加力以在沉积掩模的长度方向上使沉积掩模延伸；凹部区域与第一区域邻近并且限定位于端部处的凹部；图案部分包括沉积材料穿行经过的多个图案孔。沿着长度方向，多个第一图案部分布置在第一区域中以及多个第二图案部分布置在凹部区域中。施加的力使第一区域延伸，并且不使凹部区域延伸。力未施加限定图案部分的未延伸位置，并且对于第一图案部分和第二图案部分的未延伸位置，相邻第一图案部分之间的第一距离小于相邻第二图案部分之间的第二距离。

主权项

沉积掩模，包括：第一区域，在所述沉积掩模的长度方向上延长以限定夹持部分，所述夹持部分位于所述沉积掩模在所述长度方向上的相对端部处，并且所述夹持部分被施加力以在所述沉积掩模的所述长度方向上使所述沉积掩模延伸，所述第一区域通过施加至所述夹持部分的所述力而在所述长度方向上延伸；凹部区域，在所述沉积掩模的宽度方向上设置成与所述第一区域邻近，所述凹部区域在所述沉积掩模的所述长度方向上延长，以限定位于所述沉积掩模的所述相对端部中的每个端部处的凹部，所述凹部区域不通过施加至所述夹持部分的所述力在所述长度方向上延伸；以及图案部分，包括多个沉积图案孔，沉积材料穿行经过所述多个沉积图案孔到达目标，所述沉积材料沉积在所述目标上，其中，所述图案部分设置成多个，包括：多个第一图案部分，沿着所述长度方向布置在所述第一区域中；以及多个第二图案部分，沿着所述长度方向布置在所述凹部区域中，所述力未施加至所述夹持部分限定多个所述图案部分的未延伸位置，以及对于所述多个所述图案部分的所述未延伸位置，所述多个第一图案部分中的相邻第一图案部分之间的第一距离小于所述多个第二图案部分中的相邻第二图案部分之间的第二距离。