[发明专利]沉积掩模、沉积装置及制造显示装置的方法

权利要求书

1.沉积掩模，包括：

第一区域，在所述沉积掩模的长度方向上延长以限定夹持部分，所述夹持部分位于所述沉积掩模在所述长度方向上的相对端部处，并且所述夹持部分被施加力以在所述沉积掩模的所述长度方向上使所述沉积掩模延伸，所述第一区域通过施加至所述夹持部分的所述力而在所述长度方向上延伸；

凹部区域，在所述沉积掩模的宽度方向上设置成与所述第一区域邻近，所述凹部区域在所述沉积掩模的所述长度方向上延长，以限定位于所述沉积掩模的所述相对端部中的每个端部处的凹部，所述凹部区域不通过施加至所述夹持部分的所述力在所述长度方向上延伸；以及

图案部分，包括多个沉积图案孔，沉积材料穿行经过所述多个沉积图案孔到达目标，所述沉积材料沉积在所述目标上，

其中，

所述图案部分设置成多个，包括：

多个第一图案部分，沿着所述长度方向布置在所述第一区域中；以及

多个第二图案部分，沿着所述长度方向布置在所述凹部区域中，

所述力未施加至所述夹持部分限定多个所述图案部分的未延伸位置，以及

对于所述多个所述图案部分的所述未延伸位置，所述多个第一图案部分中的相邻第一图案部分之间的第一距离小于所述多个第二图案部分中的相邻第二图案部分之间的第二距离。

2.根据权利要求1所述的沉积掩模，其中，所述图案部分中的每个具有包括矩形形状、圆形形状和椭圆形形状之一的平面形状。

3.根据权利要求2所述的沉积掩模，其中，所述图案部分中的每个具有所述矩形形状并且包括圆拐角。

4.根据权利要求1所述的沉积掩模，其中，

所述多个第一图案部分分别在所述多个第一图案部分中的相邻第一图案部分之间限定多个第一距离，以及所述多个第二图案部分分别在所述多个第二图案部分中的相邻第二图案部分之间限定多个第二距离，以及对于所述多个所述图案部分的所述未延伸位置，所述多个第一距离和所述多个第二距离分别是恒定的。

5.根据权利要求1所述的沉积掩模，其中，

所述多个第一图案部分分别在所述多个第一图案部分中的相邻第一图案部分之间限定多个第一距离，以及所述多个第二图案部分分别在所述多个第二图案部分中的相邻第二图案部分之间限定多个第二距离，以及

对于所述多个所述图案部分的所述未延伸位置，所述多个第二距离从所述沉积掩模的中心部分朝所述沉积掩模的所述相对端部逐渐增大。

6.用于沉积薄膜的沉积装置，所述装置包括：

掩模框架组件，设置成面对基板，所述基板上沉积所述薄膜，并且沉积材料穿行经过所述掩模框架组件到达所述基板；以及沉积源，设置成面对所述掩模框架组件，并且所述沉积材料能够从所述沉积源朝所述掩模框架组件注射，其中，所述掩模框架组件包括：

沉积掩模，所述沉积材料穿行经过所述沉积掩模到达所述基板，并且所述沉积掩模能够在所述沉积掩模的长度方向上延伸；以及框架，在所述沉积掩模的所述长度方向上拉伸的所述沉积掩模接合至所述框架，所述框架包括位于所述框架的中心部分中的开口，其中，所述沉积掩模包括：

第一区域，在所述长度方向上延长以限定夹持部分，所述夹持部分位于所述沉积掩模在所述长度方向上的相对端部处，并且所述夹持部分被施加力以在所述沉积掩模的所述长度方向上使所述沉积掩模延伸，所述第一区域通过施加至所述夹持部分的所述力而在所述长度方向上延伸；凹部区域，设置成与所述第一区域邻近，所述凹部区域在所述沉积掩模的所述长度方向上延长以限定位于所述沉积掩模的所述相对端部中的每个端部处的凹部，所述凹部区域不通过施加至所述夹持部分的所述力在所述长度方向上延伸；以及

图案部分，包括所述沉积材料穿行经过的多个沉积图案孔，

其中，所述图案部分设置成多个，包括：

多个第一图案部分，沿着所述长度方向布置在所述第一区域中；以及

多个第二图案部分，沿着所述长度方向布置在所述凹部区域中，

所述力未施加至所述夹持部分限定多个所述图案部分的未延伸位置，以及

对于所述多个所述图案部分的所述未延伸位置，所述多个第一图案部分中的相邻第一图案部分之间的第一距离小于所述多个第二图案部分中的相邻第二图案部分之间的第二距离。