[发明专利]彩膜基板的制作方法在审

专利信息
申请号: 201710828379.9 申请日: 2017-09-14
公开(公告)号: CN107591430A 公开(公告)日: 2018-01-16
发明(设计)人: 李文杰 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙)44300 代理人: 黄威
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供了一种彩膜基板的制作方法,包括步骤提供一基板,所述基板包括彩膜区域和黑色矩阵区域;在所述基板表面黑色矩阵区域形成黑色矩阵;在所述基板的所述彩膜区域涂布RGB色阻;在所述黑色矩阵表面对应形成支撑柱,所述支撑柱采用遮光性材料制备;在所述基板的上方形成保护层;其中,采用遮光性材料制备的所述支撑柱设置于所述黑色矩阵的表面用于防止光线透过RGB色阻发生混色。本发明通过将不透光的支撑柱设置在黑色矩阵的上面,能够减小彩膜基板的厚度,同时改善光线透过彩膜基板发生的混色问题,进而提高了显示器件的显示质量。
搜索关键词: 彩膜基板 制作方法
【主权项】:
一种彩膜基板的制作方法,其特征在于,所述彩膜基板的制作方法包括如下步骤:步骤S10、提供一基板,所述基板包括彩膜区域和黑色矩阵区域;步骤S20、在所述基板表面沉积黑色矩阵层,对所述黑色矩阵层进行图形化处理形成黑色矩阵,以将所述彩膜区域的所述黑色矩阵层全部去掉;步骤S30、在所述基板的所述彩膜区域涂布RGB色阻;步骤S40、在所述黑色矩阵表面对应形成支撑柱,所述支撑柱采用遮光性材料制备;步骤S50、在所述基板的上方形成保护层,所述保护层整面覆盖所述黑色矩阵、所述支撑柱和所述RGB色阻;其中,采用遮光性材料制备的所述支撑柱设置于所述黑色矩阵的表面以防止光线透过RGB色阻发生混色。
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