[发明专利]彩膜基板的制作方法在审
申请号: | 201710828379.9 | 申请日: | 2017-09-14 |
公开(公告)号: | CN107591430A | 公开(公告)日: | 2018-01-16 |
发明(设计)人: | 李文杰 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙)44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种彩膜基板的制作方法,包括步骤提供一基板,所述基板包括彩膜区域和黑色矩阵区域;在所述基板表面黑色矩阵区域形成黑色矩阵;在所述基板的所述彩膜区域涂布RGB色阻;在所述黑色矩阵表面对应形成支撑柱,所述支撑柱采用遮光性材料制备;在所述基板的上方形成保护层;其中,采用遮光性材料制备的所述支撑柱设置于所述黑色矩阵的表面用于防止光线透过RGB色阻发生混色。本发明通过将不透光的支撑柱设置在黑色矩阵的上面,能够减小彩膜基板的厚度,同时改善光线透过彩膜基板发生的混色问题,进而提高了显示器件的显示质量。 | ||
搜索关键词: | 彩膜基板 制作方法 | ||
【主权项】:
一种彩膜基板的制作方法,其特征在于,所述彩膜基板的制作方法包括如下步骤:步骤S10、提供一基板,所述基板包括彩膜区域和黑色矩阵区域;步骤S20、在所述基板表面沉积黑色矩阵层,对所述黑色矩阵层进行图形化处理形成黑色矩阵,以将所述彩膜区域的所述黑色矩阵层全部去掉;步骤S30、在所述基板的所述彩膜区域涂布RGB色阻;步骤S40、在所述黑色矩阵表面对应形成支撑柱,所述支撑柱采用遮光性材料制备;步骤S50、在所述基板的上方形成保护层,所述保护层整面覆盖所述黑色矩阵、所述支撑柱和所述RGB色阻;其中,采用遮光性材料制备的所述支撑柱设置于所述黑色矩阵的表面以防止光线透过RGB色阻发生混色。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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