[发明专利]一种柔性多层透明导电氧化物薄膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 201710796080.X 申请日: 2017-09-06
公开(公告)号: CN107546341B 公开(公告)日: 2019-07-26
发明(设计)人: 杨勇;李刚;姚婷婷;金克武;沈洪雪;王天齐;彭赛奥;甘治平 申请(专利权)人: 蚌埠玻璃工业设计研究院
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/48
代理公司: 安徽省蚌埠博源专利商标事务所 34113 代理人: 陈俊
地址: 233010 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开一种柔性多层透明导电氧化物薄膜的制备方法,包括以下步骤:S1、清洗柔性基底;S2、通过磁控溅射在柔性基底表面沉积下SiO2膜层,下SiO2膜层厚度为15~60nm;S3、采用电子束蒸发技术在下SiO2膜层表面蒸发Ag膜层,Ag膜层厚度6~20nm;S4、在真空腔内对Ag膜层进行Ar等离子辐照;S5、通过磁控溅射在Ag膜层表面沉积上SiO2膜层,得到所述透明导电氧化物薄膜,上SiO2膜层厚度为15~60nm;本发明得到的透明导电SiO2/Ag/SiO2的复合薄膜,具有更好的透过率和导电性能;对Ag膜层采用等离子体辐照,使Ag膜层成膜质量更好,整个复合膜系具有更好的透过率和导电性;SiO2膜层与Ag膜层之间浸润性良好,不需要金属过渡层,且成本低廉,适合工业化生产。
搜索关键词: 一种 柔性 多层 透明 导电 氧化物 薄膜 制备 方法
【主权项】:
1.一种柔性多层透明导电氧化物薄膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:S1、清洗柔性基底;S2、通过磁控溅射在柔性基底表面沉积下SiO2膜层,下SiO2膜层厚度为15~60nm;S3、采用电子束蒸发技术在下SiO2膜层表面蒸发Ag膜层,Ag膜层厚度6~20nm;S4、在真空腔内对Ag膜层进行Ar等离子辐照;S5、通过磁控溅射在Ag膜层表面沉积上SiO2膜层,得到所述透明导电氧化物薄膜,上SiO2膜层厚度为15~60nm。
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