[发明专利]一种柔性多层透明导电氧化物薄膜的制备方法

权利要求书

1.一种柔性多层透明导电氧化物薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、清洗柔性基底；

S2、通过磁控溅射在柔性基底表面沉积下SiO₂膜层，下SiO₂膜层厚度为15～60nm；

S3、采用电子束蒸发技术在下SiO₂膜层表面蒸发Ag膜层，Ag膜层厚度6～20nm；

S4、在真空腔内对Ag膜层进行Ar等离子辐照；

S5、通过磁控溅射在Ag膜层表面沉积上SiO₂膜层，得到所述透明导电氧化物薄膜，上SiO₂膜层厚度为15～60nm。

2.根据权利要求1所述的一种柔性多层透明导电氧化物薄膜的制备方法，其特征在于，所述柔性基底采用聚乙烯醇薄膜、聚酰亚胺薄膜或聚酯薄膜。

3.根据权利要求1所述的一种柔性多层透明导电氧化物薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤S4在真空腔内通入Ar气，Ar气流量为30～60sccm，真空腔压强维持在5～10Pa；利用射频电源对Ar气进行离化，射频功率20～40W,对Ag膜层的辐照时间为10～30s。