[发明专利]一种表面具有微结构的ZnO基透明导电玻璃制备方法在审

专利信息
申请号: 201710795789.8 申请日: 2017-09-06
公开(公告)号: CN107579135A 公开(公告)日: 2018-01-12
发明(设计)人: 彭寿;马立云;姚婷婷;李刚;杨勇;汤永康;沈洪雪;金克武;王天齐;彭赛奥;甘治平 申请(专利权)人: 蚌埠玻璃工业设计研究院
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0236;H01L31/0224
代理公司: 安徽省蚌埠博源专利商标事务所34113 代理人: 陈俊
地址: 233010 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开一种表面具有微结构的ZnO基透明导电玻璃制备方法,包括以下步骤S1、在玻璃衬底表面室温下溅射生长ZnO基薄膜;S2、采用线棒刮涂法,在ZnO基薄膜表面制备单层离散分布的聚苯乙烯小球掩膜层;S3、采用反应等离子体刻蚀技术对带有掩膜的ZnO基薄膜进行刻蚀,使ZnO基薄膜表面形成凹凸的织构化结构;S4、将刻蚀好的ZnO基薄膜退火处理,去除聚苯乙烯小球掩膜,最终得到表面具有微结构的ZnO基透明导电玻璃;本方法能够制备出的ZnO基透明导电玻璃具有织构化微结构表面形貌,且具有高透过率、低电阻的,制备过程简单,并且微结构形貌可控。
搜索关键词: 一种 表面 具有 微结构 zno 透明 导电 玻璃 制备 方法
【主权项】:
一种表面具有微结构的ZnO基透明导电玻璃制备方法,其特征在于,包括以下步骤:S1、采用射频磁控溅射工艺,在玻璃衬底表面室温下溅射生长ZnO基薄膜;S2、采用线棒刮涂法,在ZnO基薄膜表面制备单层离散分布的聚苯乙烯小球掩膜层;S3、采用反应等离子体刻蚀技术对带有掩膜的ZnO基薄膜进行刻蚀,使ZnO基薄膜表面形成凹凸的织构化结构;S4、将刻蚀好的ZnO基薄膜退火处理,去除聚苯乙烯小球掩膜,最终得到表面具有微结构的ZnO基透明导电玻璃。
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