[发明专利]成膜装置、成膜方法以及太阳能电池的制造方法在审

专利信息
申请号: 201710795258.9 申请日: 2017-09-06
公开(公告)号: CN107794511A 公开(公告)日: 2018-03-13
发明(设计)人: 松崎淳介;高桥明久 申请(专利权)人: 株式会社爱发科
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56;C23C14/34;C23C14/54;C23C14/16;C23C14/08;H01L31/0224
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司72001 代理人: 李婷,刘林华
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种在借助溅射在成膜对象基板上形成金属层的情况下能够高效且可靠地进行冷却的技术。在形成有单一的真空气氛的真空槽(2)内具备基板保持器输送机构(3),该基板保持器输送机构(3)具有沿着输送路径将保持成膜对象基板(50)的基板保持器(11)向既定方向输送的去路侧输送部(33a)、沿着输送路径将基板保持器(11)向与去路侧输送部(33a)的输送方向相反的方向输送的回路侧输送部(33c)、以及将基板保持器(11)以维持上下关系的状态从去路侧输送部(33a)朝向回路侧输送部(33c)折返地输送的输送折返部(30B)。以去路侧输送部(33a)通过冷却区域(7)且回路侧输送部(33c)通过第1以及第2金属层成膜区域(4、5)的方式设置。
搜索关键词: 装置 方法 以及 太阳能电池 制造
【主权项】:
一种成膜装置,其特征在于,前述成膜装置具备:真空槽,其形成有单一的真空气氛;冷却区域,其设置于前述真空槽内,从第1面侧对被保持于基板保持器的成膜对象基板进行冷却;金属层成膜区域,其设置于前述真空槽内,具有溅射源,在被保持于前述基板保持器的前述成膜对象基板的第2面上进行金属层的成膜;输送路径,其以相对于铅垂面的投影形状为一连串的环状的方式形成,并以通过前述金属层成膜区域以及前述冷却区域的方式设置;以及基板保持器输送机构,其将前述基板保持器以设成水平的状态沿前述输送路径输送,前述基板保持器输送机构具有:第1输送部,其沿着前述输送路径将前述基板保持器向既定方向输送;第2输送部,其沿着前述输送路径将前述基板保持器向与前述第1输送部的输送方向相反的方向输送;以及输送折返部,其将前述基板保持器以维持上下关系的状态从前述第1输送部朝向前述第2输送部折返地输送,前述成膜装置被设置成:前述第1输送部通过前述金属层成膜区域以及前述冷却区域中的一方,且前述第2输送部通过前述金属层成膜区域以及前述冷却区域中的另一方。
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