[发明专利]利用曝光用掩膜的曝光方法

摘要

本发明公开一种利用曝光用掩膜的曝光方法，曝光用掩膜包括：普通区域；第一边缘位置区域，与所述普通区域的一侧相邻且被划分成多个单元；第二边缘位置区域，与所述普通区域的与所述一侧相向的另一侧相邻，并被划分成多个单元，且具有与所述第一边缘位置区域相同的面积。在所述普通区域中形成有用于在作为被曝光部件的基板形成曝光图案的图案，在所述第一边缘位置区域中，在第一单元内形成有A图案，在对应于所述第一单元的位置的所述第二边缘位置区域的第二单元内形成有B图案，如果所述A图案和所述B图案被双重曝光，则形成与所述普通区域的曝光图案相同的曝光图案。

主权项

一种曝光方法，包括：利用曝光用掩膜而曝光第一照射的步骤；以及利用所述曝光用掩膜而以与所述第一照射部分重叠的方式曝光第二照射的步骤，所述曝光用掩膜包括：普通区域；第一边缘位置区域，与所述普通区域的一侧相邻且被划分成多个单元；以及第二边缘位置区域，与所述普通区域的与所述一侧相向的另一侧相邻，并被划分成多个单元，且具有与所述第一边缘位置区域相同的面积，在所述普通区域中形成有用于在作为被曝光部件的基板形成曝光图案的图案，在所述第一边缘位置区域中，在第一单元内形成有A图案，在对应于所述第一单元的位置的所述第二边缘位置区域的第二单元内形成有B图案，如果在将所述第一照射进行曝光的步骤中，所述基板借助所述A图案而被曝光，且在将所述第二照射进行曝光的步骤中，所述基板借助所述B图案而被曝光，则借助所述A图案和所述B图案被双重曝光的部分形成与所述普通区域的曝光图案相同的曝光图案。