[发明专利]成膜设备

摘要

本发明涉及显示器制备技术领域，公开了一种成膜设备，减少摩擦碎屑的产生，进而减少碎屑对反应腔造成的污染，提高成膜品质。本发明提供了一种成膜设备，包括：具有第一腔室的底座，用于至少盖合第一腔室的开口的上盖，位于上盖和底座之间的第一密封圈，其中，上盖具有倾斜的斜面，斜面在底座的底面所在平面上的正投影与第一密封圈在底座的底面所在平面上的正投影所围成的区域有交叠，且斜面在底座的底面所在平面上的正投影位于第一腔室在底座的底面所在平面上的正投影的外侧，斜面上靠近第一腔室的部分相对于斜面上远离第一腔室的部分远离底座的底面。