[发明专利]一种用于芯片表面的蚀刻装置在审
申请号: | 201710745782.5 | 申请日: | 2017-08-26 |
公开(公告)号: | CN107579024A | 公开(公告)日: | 2018-01-12 |
发明(设计)人: | 卓廷厚 | 申请(专利权)人: | 华天恒芯半导体(厦门)有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 361000 福建省厦门*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于芯片表面的蚀刻装置,包括工作台,所述工作台为中空结构,且工作台一侧底部内壁焊接有蚀刻液箱,所述蚀刻液箱一侧底部螺纹连接有高压水泵,且高压水泵通过螺栓连接在工作台底部内壁上,所述高压水泵出水口螺纹连接有出液管,所述工作台在一侧顶部开设有通孔,且出液管通过通孔穿过工作台,所述喷杆螺纹连接有高压喷头。本发明喷杆和高压喷头的设置,能够让蚀刻液均匀的喷洒到芯片上进行蚀刻,通过喷气管和喷气孔的设置,能够让喷气孔喷出高压气体,把滞留在凹陷区的蚀刻液吹出芯片,避免造成蚀刻过度而导致预定的导电路径道蚀断,通过回收槽的设置,能够把高压气体吹出的蚀刻液进行回收处理再利用。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 芯片 表面 蚀刻 装置 | ||
【主权项】:
一种用于芯片表面的蚀刻装置,包括工作台(1),其特征在于,所述工作台(1)为中空结构,且工作台(1)一侧底部内壁焊接有蚀刻液箱(2),所述蚀刻液箱(2)一侧底部螺纹连接有高压水泵(13),且高压水泵(13)通过螺栓连接在工作台(1)底部内壁上,所述高压水泵(13)出水口螺纹连接有出液管(12),所述工作台(1)在一侧顶部开设有通孔,且出液管(12)通过通孔穿过工作台(1),所述出液管(12)远离高压水泵(13)的一端螺纹连接有喷杆(7),所述喷杆(7)螺纹连接有高压喷头(8),所述工作台(1)顶部外壁两端分别焊接有第一支撑脚(3)和第二支撑脚(11),且第一支撑脚(3)和第二支撑脚(11)均为两个,两个所述第一支撑脚(3)之间通过轴承连接有第一传动辊(4),两个所述第二支撑脚(11)之间通过轴承连接有第二传动辊(10),所述第一传动辊(4)和第二传动辊(10)外壁均套接有传送带(14),所述工作台(1)位于出液管(12)和传送带(14)之间顶部两端均焊接有第一支架,且两个第一支架之间焊接有回收槽(9),所述工作台(1)远离出液管(12)的一侧顶部两端均焊接有第二支架,且两个第二支架之间通过螺丝连接有喷气管(6),且喷气管(6)开设有喷气孔(5)。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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