[发明专利]一种等离子体装置及其应用

摘要

本发明公开了一种等离子体装置及其应用。所述等离子体装置包括等离子体发生器、密封机构、第一电极、第二电极、第一电极板以及第二电极板；所述密封机构能够与薄膜沉积设备的真空腔室配合形成密封空间，第一电极及第二电极设置于密封机构上，第一电极分别与等离子体发生器和第一电极板连接，第二电极与第二电极板连接，第二电极还用于与薄膜沉积设备的外壳连接，第一电极板与第二电极板之间设有用以容置待处理样品的、可调的间距，该间距能够在等离子体发生器工作时形成等离子体区域。本发明的等离子体装置结构简单、灵活，可实现样品预处理与薄膜生长在同一真空环境下完成，避免转移时产生的二次污染问题以及半导体器件中的表面态问题。

主权项

1.一种等离子体装置，可与薄膜沉积设备的真空腔室连接，其特征在于，所述装置包括等离子体发生器、密封机构、第一电极、第二电极、第一电极板以及第二电极板；所述密封机构至少能够与薄膜沉积设备的真空腔室配合形成密封空间，所述第一电极及第二电极设置于密封机构上，所述第一电极分别与所述等离子体发生器和第一电极板连接，所述第二电极与第二电极板连接，所述第二电极还用于与薄膜沉积设备的外壳连接；所述第一电极板与第二电极板之间设置有至少用以容置待处理样品的、可调的间距，当所述等离子体发生器处于工作状态时，至少在所述间距内形成等离子体区域。