[发明专利]包含基准标记的光掩模在审
| 申请号： | 201710690064.2 | 申请日： | 2017-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN109143801A | 公开（公告）日： | 2019-01-04 |
| 发明（设计）人： | 李信昌;陈嘉仁;林志诚;林秉勋 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人： | 顾伯兴 |
| 地址： | 中国台湾新竹科*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种光掩模包括：图案区；以及多个缺陷，位于所述图案区中。所述光掩模进一步包括：第一基准标记，位于所述图案区之外，其中所述第一基准标记包括所述光掩模的识别信息，所述第一基准标记具有第一大小及第一形状。所述光掩模进一步包括：第二基准标记，位于所述图案区之外。所述第二基准标记具有：第二大小，不同于所述第一大小，或者第二形状，不同于所述第一形状。 | ||
| 搜索关键词： | 基准标记 光掩模 图案区 | ||
【主权项】：
1.一种光掩模，其特征在于，包括：图案区；多个缺陷，位于所述图案区中；第一基准标记，位于所述图案区之外，其中所述第一基准标记包括所述光掩模的识别信息，所述第一基准标记具有第一大小及第一形状；以及第二基准标记，位于所述图案区之外，其中所述第二基准标记具有：第二大小，不同于所述第一大小，或者第二形状，不同于所述第一形状。
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