[发明专利]包含基准标记的光掩模在审
| 申请号： | 201710690064.2 | 申请日： | 2017-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN109143801A | 公开（公告）日： | 2019-01-04 |
| 发明（设计）人： | 李信昌;陈嘉仁;林志诚;林秉勋 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人： | 顾伯兴 |
| 地址： | 中国台湾新竹科*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基准标记 光掩模 图案区 | ||
【权利要求书】：
1.一种光掩模，其特征在于，包括：
图案区；
多个缺陷，位于所述图案区中；
第一基准标记，位于所述图案区之外，其中所述第一基准标记包括所述光掩模的识别信息，所述第一基准标记具有第一大小及第一形状；以及
第二基准标记，位于所述图案区之外，其中所述第二基准标记具有：
第二大小，不同于所述第一大小，或者
第二形状，不同于所述第一形状。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司，未经台湾积体电路制造股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710690064.2/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
